[发明专利]微弧氧化液、微弧氧化方法及铝合金材料

权利要求书

1.一种微弧氧化液，其特征在于，包括1～10g/L的第一有机酸、0.1～6g/L第二有机酸和0.2～10g/L络合剂，所述第一有机酸包括草酸，所述第二有机酸包括酒石酸、丁二酸、柠檬酸和硼酸中的至少一种；

所述络合剂为乙二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸和酒石酸钠中的至少一种；

还包括0.1～5g/L氧化液添加剂，所述氧化液添加剂为硅酸盐。

2.一种采用权利要求1所述的微弧氧化液的微弧氧化方法，其特征在于，所述方法包括微弧氧化，所述微弧氧化包括以工件为阳极，以不锈钢或石墨为阴极，阳极连接电源正极，电源负极连接阴极，然后将阳极和阴极一同放进含有所述微弧氧化溶液的电解槽中进行微弧氧化处理；

所述微弧氧化方法使用的电源为脉冲电源，脉冲电源处理参数为：电压310-600V，电流密度0.5A/dm²-5A/dm²、脉冲频率200-2000Hz、占空比20-80％、处理时间30-60min。

3.根据权利要求2所述的微弧氧化方法，其特征在于，所述方法还包括：所述方法还包括在所述微弧氧化前进行前处理和在所述微弧氧化后进行后处理；

所述前处理包括对工件抛光、除油、中和、水洗；

所述后处理包括再次对工件水洗，洗涤结束后烘干。

4.根据权利要求3所述的微弧氧化方法，其特征在于，所述后处理还包括：在洗涤后烘干前对工件进行染色，染色后对工件进行封孔。

5.根据权利要求4所述的微弧氧化方法，其特征在于，染色温度为20-50℃，染色时长为10-30min，封孔时长为20-50min。

6.根据权利要求4或5所述的微弧氧化方法，其特征在于，所述后处理还包括：对封孔烘干后的工件进行第二次抛光，第二次抛光采用的是干式抛光轮或者湿式研磨机。

7.一种铝合金材料，其特征在于，所述铝合金材料的表面具有权利要求2-6任一项所述的微弧氧化方法制备的结晶Al₂O₃氧化膜。

8.根据权利要求7所述的铝合金材料，其特征在于，所述结晶Al₂O₃氧化膜的厚度为10-50μm，孔隙的直径为40-100nm，孔隙率为5％-15％。