[发明专利]纳米压印结构、其控制方法、纳米压印装置及构图方法有效
申请号: | 201911308299.6 | 申请日: | 2019-12-18 |
公开(公告)号: | CN110989293B | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 周雪原;张笑;李多辉;路彦辉;郭康;谷新;谭伟;刘震;赵晋 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 张佳 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米 压印 结构 控制 方法 装置 构图 | ||
本发明公开了一种纳米压印结构、其控制方法、纳米压印装置及构图方法,通过在磁性连杆上设置轴承结构,并且将软膜板设置为环状软膜板,将环状软膜板套设在磁性连杆具有轴承结构的位置,通过控制轴承结构围绕磁性连杆转动,带动环状软膜板的压印图形在第二方向上运动,通过控制轴承结构在磁性连杆上滑动,带动环状软膜板的压印图形在第一方向上运动,从而设置一张环状软膜板,调节压印图形所在区域,即可完成对基板的构图,不仅解决了多张软膜板拼接造成的构图均一性的问题,也极大的节约了生产成本。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种纳米压印结构、其控制方法、纳米压印装置及构图方法。
背景技术
采用纳米压印技术进行构图,由于可以形成纳米级的尺寸,可以使显示面板实现高分辨率,并且其还具有工艺过程简单、超低成本、高生产率等优点,被广泛应用于LED、半导体等微纳制造领域,被认为是具有前景的下一代光刻技术之一。
现有纳米压印过程中,由于硬模板尺寸的限制,只能对硬模板进行多次复制,复制出多张软模板,使每张软膜板中压印图形的位置不同,每张软膜板对基板的不同位置进行构图,从而通过多张软膜板中的压印图形的拼接完成对基板构图。但是,在形成软模板的过程中,每张软膜板均需要单独对硬模板上的图形进行复制,无法保证每一次复制的硬模板上的光栅方向沿着均一致,这会导致最终复制的软模板的品质不佳,在对基板进行构图时,会导致基板各图形的均一性较差,影响显示质量。
因此,如何通过对纳米压印结构的设计,提高基板构图均一性,是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
发明内容
有鉴于此,本发明实施例提供了一种纳米压印结构、其控制方法、纳米压印装置及构图方法,用以提高基板的构图均一性。
第一方面,本发明实施例提供了一种纳米压印结构,包括:两个沿第一方向延伸的固定磁铁,且所述固定磁铁之间存在第一预设距离,以及分别位于所述固定磁铁上且沿所述第一方向延伸的磁性连杆;还包括:
多个轴承结构,所述轴承结构套设在所述磁性连杆上,所述轴承结构被配置为在控制下在预设方向围绕所述磁性连杆转动预设弧度,且在控制下沿所述磁性连杆在所述第一方向上滑动第二预设距离;
环状软膜板,所述环状软膜板套设在两个所述磁性连杆上,且覆盖所述轴承结构所在区域,所述环状软膜板的压印图形位于两个所述磁性连杆之间,且位于紧邻所述固定磁铁的一侧;
所述压印图形在第二方向上的延伸长度小于所述第一预设距离,和/或,所述压印图形在所述第一方向上的延伸长度小于所述磁性连杆在所述第一方向上的长度;所述第一方向与所述第二方向垂直。
在一种可能的实施方式中,在本发明实施例提供的纳米压印结构,在所述环状软膜板覆盖的区域内,所述轴承结构均匀分布。
在一种可能的实施方式中,在本发明实施例提供的纳米压印结构,所述第一预设距离为600mm~1800mm。
在一种可能的实施方式中,在本发明实施例提供的纳米压印结构,所述压印图形在第二方向上的延伸长度为84mm~252mm;
所述压印图形在所述第一方向上的延伸长度为56mm~168mm。
第二方面,本发明实施例还提供了一种纳米压印结构的控制方法,包括:
根据待构图基板中预设的待构图区域,调整所述轴承结构在预设方向围绕所述磁性连杆转动预设弧度,和/或,调整所述轴承结构在所述第一方向上沿所述磁性连杆滑动所述第二预设距离。
第三方面,本发明实施例还提供了一种纳米压印装置,包括第一方面实施例任一项提供的纳米压印结构,位于所述纳米压印结构背离所述压印图形一侧的压印杆,以及控制单元;
所述控制单元被配置为控制所述压印杆以及所述轴承结构运动。
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