[发明专利]保持器单元在审
申请号: | 201911315606.3 | 申请日: | 2019-12-18 |
公开(公告)号: | CN111347572A | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 曾山浩 | 申请(专利权)人: | 三星钻石工业股份有限公司 |
主分类号: | B28D1/22 | 分类号: | B28D1/22;B28D7/00;C03B33/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 肖茂深 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 保持 单元 | ||
本发明提供能够使刻划轮更加顺畅地旋转的保持器单元。保持器单元(100)具备:刻划轮(120);支承销(130),其支承刻划轮(120)并且与刻划轮(120)一体地旋转;保持器(110),其具有收容支承销(130)的销收容部;第一旋转体(140A),其在扫描方向上能够与支承销(130)的一侧接触;第二旋转体(150A),其在扫描方向上能够与支承销(130)的另一侧接触;第一销(160),其将第一旋转体(140A)支承为能够旋转;以及第二销(170),其将第二旋转体(150A)支承为能够旋转。
技术领域
本发明涉及保持器单元。
背景技术
已知在对脆性材料基板等被加工物的刻划线的形成中使用刻划装置。该刻划装置具备保持器单元,该保持器单元主要包括对被加工物进行刻划的刻划轮、与刻划轮一体地旋转的支承销、以及保持支承销的保持器。在刻划中,在刻划轮被按压于被加工物的表面的状态下,被加工物与刻划轮相对地移动,在被加工物形成刻划线。需要说明的是,作为以往的刻划装置的一例,可举出专利文献1。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2002-234748号公报
在以往的保持器单元中,支承销插入形成于保持器的贯通孔,通过支承销与刻划轮的旋转相伴地在构成贯通孔的内表面滑动,而限制了刻划轮相对于贯通孔的位移。但是,支承销与构成贯通孔的内表面为滑动摩擦,因此支承销与构成贯通孔的内表面之间的摩擦阻力变大。
发明内容
发明要解决的课题
本发明的目的在于提供能够使刻划轮更加顺畅地旋转的保持器单元。
用于解决课题的方案
本发明涉及的保持器单元具备:刻划轮;支承销,其支承所述刻划轮并且与所述刻划轮一体地旋转;保持器,其具有收容所述支承销的销收容部;第一旋转体,其在所述刻划轮的扫描方向上能够与所述支承销的一侧接触;第二旋转体,其在所述刻划轮的扫描方向上能够与所述支承销的另一侧接触;第一销,其将所述第一旋转体支承为能够旋转,并安装于所述保持器;以及第二销,其将所述第二旋转体支承为能够旋转,并安装于所述保持器。
根据该结构,通过第一旋转体以及第二旋转体来限制支承销在刻划轮的扫描方向上的移动。并且,在支承销与刻划轮的旋转一起旋转的情况下,与支承销接触的第一旋转体相对于第一销旋转,与支承销接触的第二旋转体相对于第二销旋转。因此,支承销与第一旋转体之间为滚动摩擦阻力,且支承销与第二旋转体之间为滚动摩擦阻力。滚动摩擦阻力比滑动摩擦阻力小,因此支承销更加顺畅地旋转。因此,能够使刻划轮更加顺畅地旋转。
在所述保持器单元的一例中,在所述保持器单元的高度方向上,所述第一旋转体以及所述第二旋转体配置于相同的位置,并且所述第一旋转体的旋转中心以及所述第二旋转体的旋转中心分别配置于比所述支承销靠所述保持器的前端部的相反侧的位置,在所述扫描方向上,所述第一旋转体与所述第二旋转体之间的距离比所述支承销的外径小。
根据该结构,通过第一旋转体以及第二旋转体来限制支承销在保持器单元的高度方向上的移动。并且刻划轮的扫描方向上的第一旋转体与第二旋转体之间的距离的最小值比支承销的外径小,因此防止支承销进入成为第一旋转体与第二旋转体之间的最小值的部分。因此,支承销能够顺畅地旋转。
在所述保持器单元的一例中,所述保持器具有收容所述刻划轮的轮收容部,所述第一旋转体以及所述第二旋转体的至少一方收容于所述轮收容部。
根据该结构,与第一旋转体以及第二旋转体配置于轮收容部的外部的结构相比,能够使保持器单元小型化。
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