[发明专利]一种消除零级衍射影响的结构光组件在审
申请号: | 201911317253.0 | 申请日: | 2019-12-19 |
公开(公告)号: | CN113009705A | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 浦东林;邵仁锦;王冠楠;朱鹏飞;张瑾;陈林森 | 申请(专利权)人: | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02B27/42 | 分类号: | G02B27/42;G02B27/09 |
代理公司: | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人: | 蔡光仟 |
地址: | 215123 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 消除 衍射 影响 结构 组件 | ||
1.一种消除零级衍射影响的结构光组件,其特征在于,包括:
激光光束;
衍射光学器件,用于接收及扩束所述激光光束,并向图形面投射图案化光束;
折射透镜,位于所述衍射光学器件的一侧,用于使所述图案化光束中的零级衍射光在所述图形面上形成背景光,并使所述图案化光束中的负一级衍射光或正一级衍射光在所述图形面上聚焦形成图案。
2.如权利要求1所述的消除零级衍射影响的结构光组件,其特征在于,其特征在于,所述衍射光学器件为近场衍射器件,所述近场衍射器件的衍射光场包括正一级和负一级衍射光场。
3.如权利要求1所述的消除零级衍射影响的结构光组件,其特征在于,所述衍射光学器件为具有二台阶结构的第一衍射器件,所述折射透镜为负折射透镜,所述负折射透镜将所述图案化光束的负一级衍射光和零级衍射光发散,所述负折射透镜将所述图案化光束中的正一级衍射光在所述图形面上聚焦形成图案。
4.如权利要求3所述的消除零级衍射影响的结构光组件,其特征在于,所述第一衍射器件为近场衍射器件。
5.如权利要求1所述的消除零级衍射影响的结构光组件,其特征在于,所述衍射光学器件为具有二台阶结构的第一衍射器件,所述折射透镜为正透镜,所述正透镜将所述图案化光束的正一级衍射光和零级衍射光汇聚后发散,所述正透镜将所述图案化光束中的负一级衍射光在所述图形面上聚焦形成图案。
6.如权利要求5所述的消除零级衍射影响的结构光组件,其特征在于,所述第一衍射器件为近场衍射器件。
7.如权利要求1所述的消除零级衍射影响的结构光组件,其特征在于,所述衍射光学器件为近场衍射器件,所述近场衍射器件的衍射光场包括正一级或负一级衍射光场。
8.如权利要求7所述的消除零级衍射影响的结构光组件,其特征在于,所述近场衍射器件的衍射光场包括正一级衍射光场,所述折射透镜为负折射透镜,所述负折射透镜将所述图案化光束中的正一级衍射光在所述图形面上聚焦形成图案。
9.如权利要求1所述的消除零级衍射影响的结构光组件,其特征在于,所述近场衍射器件为具有多台阶结构或连续台阶结构的第二衍射器件。
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