[发明专利]光罩及其制作方法

说明书

一种光罩及其制作方法，其中，制作方法包括：提供透明基材；在所述透明基材表面形成吸收层；在所述吸收层表面形成半透膜层；在所述半透膜层表面形成光催化薄膜层。本发明提供的制作方法形成的光罩，新增一层光催化薄膜层，可以解决光罩的雾化问题。

技术领域

本发明涉及半导体制作领域，尤其涉及一种光罩及其制作方法。

背景技术

随着科技的进步和发展，液晶显示器得到了广泛的应用，其中，薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LCD)由于具有低的功耗、优异的画面以及较高的生产良率等性能，目前逐渐占据了显示领域。TFT-LCD中的彩色滤光基板主要由透明玻璃基板、黑矩阵层(BM层)和彩色光阻层(RGB层)等结构组成。上述结构各涂层的制作方法中的曝光过程普遍地要用到光罩(Mask)，光罩对最终形成的彩色滤光基板的质量有很大影响。

目前的光罩结构通常由透明基材和吸收层组成，在使用光罩进行曝光时，其下的光阻材料在紫外光照射下容易产生有机物，这些有机物积聚在透明基材表面形成一层透明雾化薄膜，产生增透作用，使实际的曝光效果高出设定值，会影响产品尺寸等关键性指标，进而对彩色滤光基板的制作工艺产生不良影响。

为此，需要一种新的光罩及其制作方法，来解决光罩雾化问题。

发明内容

本发明解决的技术问题是提供一种光罩及其制作方法，可以解决光罩雾化的问题。

为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种光罩的制作方法，包括：提供透明基材；在所述透明基材表面形成吸收层；在所述吸收层表面形成半透膜层；在所述半透膜层表面形成光催化薄膜层。

可选的，形成所述光催化薄膜层的方法为溶胶凝胶法或液相沉积法。

可选的，所述溶胶凝胶法采用的溶剂为无水乙醇。

可选的，所述液相沉积法采用的反应溶液为四氯化钛的氢氧化钠溶液。

可选的，所述光催化薄膜层厚度为50nm～2000nm。

可选的，所述光催化薄膜层为二氧化钛薄膜层。

可选的，形成所述二氧化钛薄膜层后，还包括：对所述二氧化钛薄膜层进行掺杂。

可选的，所述掺杂包括非金属掺杂、过渡金属掺杂、贵金属掺杂或镧系元素掺杂。

可选的，所述二氧化钛薄膜层由锐钛矿和金红石组成，其中，所述锐钛矿的质量比例为20％～40％。

可选的，所述半透膜层为铬化合物层。

可选的，形成所述半透膜层的方法为化学气相沉积法。

利用上述方法形成的光罩，包括：透明基材；吸收层，所述吸收层设置于所述透明基材表面；半透膜层，所述半透膜层设置于所述吸收层表面；光催化薄膜层，所述光催化薄膜层设置于所述吸收层表面。

与现有技术相比，本发明实施例的技术方案具有以下有益效果：

增加一层光催化薄膜层，所述光催化薄膜层在光线作用下，会产生强烈的催化降解功能，能有效地降解光阻材料挥发产生的有机物，生成二氧化碳和水，避免有机物积聚在光罩表面造成光罩雾化，解决了光罩雾化对光刻工艺造成不良影响的问题。

附图说明

图1至图2是本发明提供的光罩制作方法一实施例的各步骤对应的结构示意图。

具体实施方式

由背景技术可知，薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-LiquidCrystal Display,TFT-LCD)中的彩色滤光基板在制作过程中，曝光时普遍要用到光罩(Mask)。