[发明专利]双层曝光结构的显示电浆模组及其制造方法

说明书

本发明涉及电子显示领域，具体涉及一种双层曝光结构的显示电浆模组及其制造方法。其中，双层曝光结构的显示电浆模组包括：基板，基板包括显示区和包围在所述显示区外周的衬垫框区；下电极，所述下电极设于所述显示区中，所述下电极包括若干成阵列式排布的像素下电极；上电极，所述上电极设于所述下电极上；显示电浆，所述显示电浆填充在所述上电极和下电极之间；电浆阻离框，所述电浆阻离框设于显示电浆中，所述电浆阻离框包括若干单元框，每个所述单元框对应框在所述像素下电极的外周，所述单元框上设有支撑柱；衬垫边框，所述衬垫边框设在所述衬垫框区中，所述衬垫边框的下端与所述基板耦合密封，上端与上电极耦合密封。本发明能够提高显示效果。

技术领域

本发明涉及电子显示领域，具体涉及一种双层曝光结构的显示电浆模组及其制造方法。

背景技术

现有的双层微结构的显示电浆模组，在薄膜晶体管（Thin Film Transistor，TFT）表面制造一种围堰的图案化结构，围堰覆盖在相邻像素电极的间隙上，围堰结构形成之后，再进一步喷洒间隔粒子，在围堰上形成间隔粒子层，由于间隔粒子重量约为显示电浆球的1/5，可漂浮在显示电浆上。当透明基层压合在衬垫边框上，大部分间隔粒子受到挤压被转移吸附在围堰上方，形成间隔粒子层。本结构的缺点是，由于间隔粒子不稳定，受到按压或挤压会脱离围堰，因此无法支撑显示电浆模组及控制显示电浆模组的厚度，导致显示电浆无序流动，影响显示效果。

发明内容

为了解决现有技术中存在的不足，本发明提供一种双层曝光结构的显示电浆模组及其制造方法，能够防止因上电极受到压力而挤压显示电浆，提高显示效果。

根据本发明提供的技术方案，作为本发明的第一方面，提供一种双层曝光结构的显示电浆模组，所述双层曝光结构的显示电浆模组包括：

基板，基板包括显示区和包围在所述显示区外周的衬垫框区；

下电极，所述下电极设于所述显示区中，所述下电极包括若干成阵列式排布的像素下电极；

上电极，所述上电极设于所述下电极上；

显示电浆，所述显示电浆填充在所述上电极和下电极之间；

电浆阻离框，所述电浆阻离框设于显示电浆中，所述电浆阻离框包括若干单元框，每个所述单元框对应框在所述像素下电极的外周，所述单元框上设有支撑柱；

衬垫边框，所述衬垫边框设在所述衬垫框区中，所述衬垫边框的下端与所述基板耦合密封，上端与上电极耦合密封。

进一步地，所述支撑柱与所述单元框连为一体。

进一步地，每个所述单元框上的所述支撑柱有1~150个。

进一步地，所述支撑柱的横截面的形状为圆形，所述支撑柱的直径范围为：1~30μm。

进一步地，所述支撑柱的截面形状为三角形。

进一步地，所述衬垫边框包括密封胶体，所述密封胶体中设有支撑微球。

进一步地，所述上电极包括导电层和透明基层，所述导电层与所述衬垫边框耦合密封，所述透明基层贴附在所述导电层上。

进一步地，所述基板包括TFT基板。

作为本发明的第二方面，提供一种双层曝光结构显示电浆模组的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供基板；

在所述基板的显示区中设置下电极，所述下电极包括若干成阵列式排布的像素下电极；

在所述下电极上设置包括若干单元框的电浆阻离框，使得每个所述像素下电极的外周对应设有一所述单元框；