[发明专利]分离方法和反应器在审
| 申请号： | 201911326260.7 | 申请日： | 2019-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN113003822A | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | B.颜;J.翟;X.许;Y.董 | 申请（专利权）人： | BL科技公司 |
| 主分类号： | C02F9/10 | 分类号： | C02F9/10;C02F9/06;C02F9/04;C02F1/56;C02F1/52;C02F103/10;C02F101/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 周蓉;梅黎 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 分离 方法 反应器 | ||
1.一种分离方法，包括：
从反应器接受水溶液中的石膏晶种细粒混合物；
向所述水溶液中添加阴离子絮凝剂；
使石膏晶种细粒和絮凝剂聚集成絮凝物；
将混合物分离为浊度降低的流出物和絮凝的石膏浆料；和
使所述絮凝的石膏浆料的一部分暴露于足以将絮凝的石膏晶种转变成非絮凝的石膏晶种细粒的剪切应力，并将细粒转移到反应器中。
2.根据权利要求1所述的分离方法，其中所述阴离子絮凝剂是聚丙烯酰胺絮凝剂。
3.根据权利要求1或2所述的分离方法，其中，使所述石膏晶种和絮凝剂聚集成絮凝物包括：
在沉积槽中搅拌絮凝物以防止所述石膏浆料硬化，例如在所述沉积槽底部使用桨。
4. 根据权利要求1至3中任一项所述的分离方法，其中，所述浊度降低的流出物是浊度小于3 NTU（散射浊度单位）或浊度在约3至约5 NTU的澄清的流出物。
5. 根据权利要求4所述的分离方法，其中，所述澄清的流出物的浊度小于3 NTU，并且所述方法进一步包括对所述澄清的流出物进行纳滤而不进行事先的超滤。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的分离方法，其中，所述分离包括沉降所述絮凝物并且将所述石膏浆料的床高度维持为所述槽的高度的约1/5至约1/3。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的分离方法，其中，将所述絮凝的石膏晶种的一部分暴露于剪切应力包括将所述絮凝的石膏晶种泵送通过具有开式叶轮的离心泵。
8. 根据权利要求7所述的分离方法，其中，所述泵送包括以至少500 rpm的速率运转开式叶轮。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的分离方法，其中，在所述反应器中，所述方法包括使用所述石膏晶种细粒从CaSO4的过饱和溶液沉淀石膏。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的分离方法，其中，所述方法进一步包括：
保持反应器中石膏晶种细粒的浓度在约0.5重量％至约10重量％，例如约1重量％至约7重量％的范围内。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的分离方法，其中，所述方法进一步包括：
添加凝结剂，例如基于三价金属盐的凝结剂，例如铁或铝基凝结剂，例如FeCl3、Fe2(SO4)3、聚硫酸铁或聚氯化铝：（a）至反应器的进料流中；（b）至反应器中的水溶液中；（c）例如在加入阴离子絮凝剂之前，至从反应器接受的水溶液中；或（d）至其任何组合中。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的分离方法，其中，所述方法进一步包括：
将反应器中的水溶液保持在pH为约4至约10、例如约6至约8、例如约6.5至约7。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的分离方法，其中，所述石膏晶种细粒的平均直径为约20μm至约40μm，例如约25μm。
14.根据权利要求1至13中任一项所述的分离方法，其中，在所述沉积槽的底部，所述沉降的石膏晶种絮凝物的局部浓度可以为约8至约25重量％。
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