[发明专利]一种显示基板、其制备方法及显示装置有效

专利信息
申请号: 201911326576.6 申请日: 2019-12-20
公开(公告)号: CN110993678B 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 张文强;谢江容;赖天奇;王磊磊;郑克宁;高营昌 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;刘伟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 制备 方法 显示装置
【说明书】:

发明涉及显示领域,尤其涉及一种显示基板、其制备方法及显示装置。本发明的显示基板,包括衬底基板和位于衬底基板上的像素定义层,所述像素定义层限定出多个像素区域,所述显示基板还包括相邻的第一像素和第二像素,所述第二空穴传输层与所述第一像素的光功能层的接触界面处设置有间隔功能层,所述间隔功能层用于阻挡相邻像素之间的空穴传输;所述光功能层至少包括空穴传输层。本发明通过设置间隔功能层,有效阻止了空穴在相邻像素的空穴传输层之间或者空穴传输层与发光层之间的迁移,避免相邻像素间的伴随发光,从而有效提高单色画面的颜色饱和度,提高OLED显示面板的色域。而且,本发明的显示基板制备方法简单,易于操作。

技术领域

本发明涉及显示领域,尤其涉及一种显示基板、其制备方法及显示装置。

背景技术

有源矩阵有机电致发光器件(AM-OLED)是新一代新型显示技术,应用前景巨大。OLED属于自主发光,由三种基色RGB构成阵列像素,其器件通常包括依次设置的:基板、阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、以及阴极。OLED器件的发光原理为:在电压驱动下,电子由阴极注入到电子传输层,然后经电子传输层迁移到发光层,空穴由阳极注入到空穴传输层,然后经空穴传输层也迁移到发光层,电子与空穴在发光层中相遇,形成激子,激子激发发光分子发出可见光。

发明内容

本发明要解决的技术问题是:提供一种显示基板、其制备方法及显示装置,所述显示基板是AMOLED面板的一部分,可有效避免由于串扰造成的像素之间的伴随发光,提高单色画面的颜色饱和度及面板色域。

本发明公开了一种显示基板,包括衬底基板和位于所述衬底基板上的像素定义层,所述像素定义层限定出多个像素区域,所述显示基板包括相邻的第一像素和第二像素,所述第一像素包括光功能层,所述光功能层至少包括第一空穴传输层,

所述第二像素包括第二空穴传输层;

所述第二空穴传输层与所述光功能层的接触界面处设置有间隔功能层,所述间隔功能层用于阻挡相邻像素之间的空穴传输。

可选地,所述光功能层包括第一空穴传输层和第一发光层。

可选地,所述第二像素的阳极与第二空穴传输层之间设置有所述间隔功能层,

所述间隔功能层与所述第一发光层及第一空穴传输层接触,且在所述第一发光层远离衬底基板的表面上有部分所述间隔功能层。

可选地,所述间隔功能层的HOMO能级与所述第一空穴传输层的HOMO能级相差>0.3eV,所述间隔功能层的HOMO能级与所述第二像素的第二发光层及所述第二空穴传输层的HOMO能级均相差≤0.3eV。

可选地,所述第一发光层远离第一空穴传输层一侧的表面设置有所述间隔功能层,

所述间隔功能层与所述第二空穴传输层接触,且在所述间隔功能层远离衬底基板的表面上有部分所述第二空穴传输层。

可选地,所述第一发光层与空穴传输层之间设置有所述间隔功能层;

所述间隔功能层与所述第二空穴传输层接触。

可选地,在所述第一发光层远离衬底基板的表面上有部分所述第二空穴传输层。

可选地,所述间隔功能层在衬底基板的正投影覆盖所述第一发光层在衬底基板的正投影,且所述间隔功能层在衬底基板的正投影的面积大于所述第一发光层在衬底基板的正投影的面积。

可选地,所述间隔功能层的HOMO能级与所述第二空穴传输层的HOMO能级相差>0.3eV,所述间隔功能层的HOMO能级与所述第一发光层及第一空穴传输层的HOMO能级均相差≤0.3eV。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911326576.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top