[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201911327371.X | 申请日： | 2019-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN113004800A | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 郁夏盈;王晨;何华锋;李星;史经深 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
1.一种化学机械抛光液，包括：研磨颗粒、催化剂、稳定剂、交联大分子表面缺陷抑制剂、氧化剂、水和pH调节剂。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光液，所述交联大分子表面缺陷抑制剂是卡波姆。
3.如权利要求2所述的化学机械抛光液，所述卡波姆的型号为934、940和941中的一种或多种。
4.如权利要求3所述的化学机械抛光液，所述型号为940的卡波姆的浓度范围为0.005％～0.1％。
5.如权利要求4所述的化学机械抛光液，所述型号为940的卡波姆的浓度范围为0.005％～0.05％。
6.如权利要求1所述的化学机械抛光液，所述研磨颗粒为SiO2。
7.如权利要求1所述的化学机械抛光液，所述研磨颗粒的浓度范围为0.5％～3％。
8.如权利要求7所述的化学机械抛光液，所述研磨颗粒的浓度范围为1％～3％。
9.如权利要求1所述的化学机械抛光液，所述催化剂选自九水硝酸铁。
10.如权利要求9所述的化学机械抛光液，所述九水硝酸铁的浓度范围为0.01％～0.1％。
11.如权利要求10所述的化学机械抛光液，所述九水硝酸铁的浓度范围为0.01％～0.07％。
12.如权利要求1所述的化学机械抛光液，所述稳定剂是可以和铁络合的羧酸。
13.如权利要求12所述的化学机械抛光液，所述可以和铁络合的羧酸选自邻苯二甲酸、草酸、丙二酸、丁二酸、己二酸、柠檬酸、马来酸中的一种或多种。
14.如权利要求13所述的化学机械抛光液，所述可以和铁络合的羧酸为丙二酸。
15.如权利要求14所述的化学机械抛光液，所述丙二酸的浓度范围为0.05％～0.3％。
16.如权利要求15所述的化学机械抛光液，所述丙二酸的浓度范围为0.1％～0.27％。
17.如权利要求1所述的化学机械抛光液，所述氧化剂是H2O2。
18.如权利要求17所述的化学机械抛光液，所述氧化剂的浓度范围是1～2％。
19.如权利要求1所述的化学机械抛光液，所述pH调节剂是HNO3。
20.如权利要求1所述的化学机械抛光液，pH值为2～4。
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