[发明专利]一种非线性透射光处理器

说明书

本发明涉及光防护技术领域，公开了一种非线性透射光处理器，包括衬底、电加热器以及温度控制器，所述衬底的一面上沉积有相变膜，所述衬底的另一面上设置所述电加热器，所述电加热器用于对所述衬底进行加热，所述电加热器通过所述温度控制器与外部电源电连接，所述温度控制器用于控制所述衬底的温度低于所述相变膜的相变温度，所述温度控制器的控制温度与所述相变温度的差值小于设定阈值。本发明提供的光处理器具有开关响应快的技术效果。

技术领域

本发明涉及光防护技术领域，具体涉及一种非线性透射光处理器。

背景技术

高灵敏的红外探测器在强光如激光照射下会出现信号饱和，严重情况下还可能导致探测器某些像元永久损坏。因此防止强光干扰或破坏红外探测器是现今探测器应用特别是光电对抗应用中必须解决的问题。现有的防护措施包括在光学系统和探测器上通过合理的涂层设计提高抗强光阈值，或者在红外探测器前配置非线性透射光元件来阻挡或限制强光通过，但是仍然保持弱光通过。非线性透射光元件主要有两类，一类是基于热致相变的薄膜光开关元件，如VO₂薄膜光开关，另一类是基于非线性光学吸收或散射效应而导致透射光饱和的光学涂层元件，如石墨烯类涂层。其中基于相变薄膜的非线性透射元件虽然具有结构简单和智能响应的特性，但是它们的光开关响应特性比较单一，响应时间较长。

发明内容

本发明的目的在于克服上述技术不足，提供一种非线性透射光处理器，解决现有技术中光开关响应时间长，无法很好的保护探测器的技术问题。

为达到上述技术目的，本发明的技术方案提供一种非线性透射光处理器，包括衬底、电加热器以及温度控制器，所述衬底的一面上沉积有相变膜，所述衬底的另一面上设置所述电加热器，所述电加热器用于对所述衬底进行加热，所述电加热器通过所述温度控制器与外部电源电连接，所述温度控制器用于控制所述衬底的温度低于所述相变膜的相变温度。

与现有技术相比，本发明的有益效果包括：本发明在衬底上配置一个电加热器，电加热器对衬底加热，衬底向相变膜传热。通过温度控制器控制电加热器的加热温度，预先将衬底以及相变膜加热到接近相变膜的相变温度但低于相变膜相变温度的温度值，降低相变膜产生相变的光功率阈值，从而可以大大缩短相变开关时间，提高光处理器对强光辐照的及时响应能力，降低反应时间。当激光来袭时，只需要较短的时间以及较小的光功率即可让相变膜发生相变。在应用于探测器的保护时可以大大缩短探测器被强光辐照的时间，降低被强光辐照的功率，减少强光干扰，更好地保护探测器。本发明通过在无源的非线性透射光元件上集成电加热器，使之具备了相变阈值可调性能，并由于降低了相变阈值，缩短了强光预警时间，能够更好地保护探测器。

附图说明

图1是本发明提供的非线性透射光处理器一实施方式的俯视图；

图2是图1中A-A处的截面图；

图3是本发明提供的非线性透射光处理器一实施方式的正视图；

图4是本发明涉及的典型曲线和相关功率值的示意图。

附图标记：

1、衬底，2、电加热器，21、加热电极，22、连接电极，3、相变膜，31、金属电极，4、偏置电源，5、信号采集电路。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

实施例1