[发明专利]像素结构及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种像素结构，其特征在于，包括子像素区域以及围绕所述子像素区域四周的间隔区域，所述间隔区域之上设置有互相断开的像素电极层和反射层；所述间隔区域之上设置有数据线层，所述像素电极层与所述数据线层连接；所述数据线层与所述像素电极层之间叠加设置有第一保护层、阻挡层以及第二保护层，所述第二保护层之上设置有所述像素电极层；所述阻挡层为金属材质，呈围绕子像素区域四周的网格状，所述阻挡层的宽度大于10um，用于阻挡刻蚀粒子向所述第一保护层方向运动；所述第二保护层中设置有与所述阻挡层连通的槽体，所述槽体中的阻挡层之上设置有所述反射层；所述阻挡层与所述第二保护层之间设置有过刻层，所述过刻层与所述反射层同层设置，所述过刻层位于所述反射层的外侧，与所述反射层之间设置有间隔；所述反射层连接有控制模块，所述控制模块用于对所述反射层施加电压，改变其上液晶层的液晶分子的偏转角度，进而改变通过液晶光线的偏振方向，控制发射后的光线是否能从偏光片出射；显示白画面时，所述控制模块控制给所述反射层加载等同于白像素的电压，增加间隔区域的反光；显示黑画面时，所述控制模块控制给所述反射层加载等同于黑色像素的电压，间隔区域不会反光，使得间隔区域之上的反射层根据画面内容做动态补偿。

2.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述反射层呈网格状。

3.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述第二保护层为树脂材质。

4.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，还包括设置于所述间隔区域之上的液晶层，所述液晶层覆盖所述像素电极层和所述反射层。

5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-4任一所述的像素结构。

6.一种像素结构的制备方法，其特征在于，包括：

在基底上形成子像素区域以及围绕所述子像素区域四周的间隔区域；

在所述间隔区域之上形成第一保护层；

在所述第一保护层之上形成阻挡层；

在所述阻挡层之上形成过刻层；

在所述过刻层之上形成第二保护层；

通过同一刻蚀工艺在所述第二保护层中形成第一穿孔以及在所述过刻层中形成第二穿孔，所述第二穿孔的直径大于所述第一穿孔的直径，所述第一穿孔与所述第二穿孔组合形成槽体；所述阻挡层为金属材质，呈围绕子像素区域四周的网格状，所述阻挡层的宽度大于10um，用于阻挡刻蚀粒子向所述第一保护层方向运动；

在所述第二保护层之上沉积金属薄膜层，所述金属薄膜层在所述槽体处断开，沉积于所述槽体中的阻挡层之上，所述第二保护层之上的金属薄膜层形成像素电极层，所述槽体中的阻挡层之上的金属薄膜层形成反射层；所述像素电极层和所述反射层互相断开；

所述反射层连接有控制模块，所述控制模块用于对所述反射层施加电压，改变其上液晶层的液晶分子的偏转角度，进而改变通过液晶光线的偏振方向，控制发射后的光线是否能从偏光片出射；显示白画面时，所述控制模块控制给所述反射层加载等同于白像素的电压，增加间隔区域的反光；显示黑画面时，所述控制模块控制给所述反射层加载等同于黑色像素的电压，间隔区域不会反光，使得间隔区域之上的反射层根据画面内容做动态补偿。