[发明专利]显示面板在审

专利信息
申请号: 201911330030.8 申请日: 2019-12-20
公开(公告)号: CN110967877A 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 池宝林 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/1339;G02F1/1343;G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 张晓薇
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板
【说明书】:

本申请提供一种显示面板,所述显示面板具有显示区和非显示区,所述显示面板包括阵列基板、彩膜基板和封装结构,所述阵列基板具有薄膜晶体管,所述阵列基板的表面和薄膜晶体管上覆盖有第一配向层,所述彩膜基板朝向所述阵列基板的表面覆盖有第二配向层,位于非显示区的所述第二配向层包括增强区域,所述封装结构设置于非显示区,位于所述阵列基板的第一配向层和所述彩膜基板的第二配向层的增强区域的之间。在本申请中,封装结构设置于增强区域,增强了封装结构和第一配向层及第二配向层与上下基板的接合力,进而提高了显示面板的性能。

技术领域

本申请涉及显示领域,具体涉及一种显示面板。

背景技术

随着电子显示技术的发展,窄边框的电子产品逐渐增多,市场对视觉效果的要求也逐渐提高,边框不断在变小,目前,窄边框的电子产品的制备方法采用屏幕拼接技术,但采用屏幕拼接技术方法制备的产品,容易导致上下基板剥离,进而影响了显示面板的性能。

发明内容

本申请提供一种显示面板,以提高显示面板的性能。

本申请提供一种显示面板,所述显示面板具有显示区和非显示区,所述显示面板包括:

阵列基板,所述阵列基板具有薄膜晶体管,所述阵列基板的表面和薄膜晶体管上覆盖有第一配向层;

彩膜基板,所述彩膜基板朝向所述阵列基板的表面覆盖有第二配向层,位于非显示区的所述第二配向层包括增强区域;以及

封装结构,所述封装结构设置于所述非显示区,位于所述阵列基板的第一配向层和所述彩膜基板的第二配向层之间,其中,所述封装结构对应设置于所述彩膜基板的增强区域。

在本申请所提供的显示面板中,所述彩膜基板还包括氧化铟锡(ITO)层,所述第二配向层覆盖氧化铟锡层,在所述增强区域,所述氧化铟锡层上具有第一通孔,所述第二配向层填充于所述第一通孔,所述封装结构与所述第二配向层和所述第一配向层贴合。

在本申请所提供的显示面板中,所述彩膜基板还包括黑色矩阵层,在所述增强区域,所述第一通孔暴露所述黑色矩阵层,所述第二配向层和所述氧化铟锡层共同覆盖所述黑色矩阵层。

在本申请所提供的显示面板中,所述彩膜基板还包括氧化铟锡(ITO)层,所述第二配向层覆盖氧化铟锡层,在所述增强区域,设置有第一彩膜结构层,所述氧化铟锡层和所述第二配向层覆盖所述第一彩膜结构层,所述氧化铟锡层在所述增强区域的高度大于所述氧化铟锡层在所述增强区域周围的高度,所述第二配向层在所述增强区域的高度大于所述第二配向层在所述增强区域周围的高度。

在本申请所提供的显示面板中,所述彩膜基板还包括黑色矩阵层,在所述增强区域,所述黑色矩阵层具有第二通孔,所述第二通孔贯穿所述黑色矩阵层,所述第一彩膜结构层设置于所述第二通孔中,其中,所述第一彩膜结构层与所述显示区的第二彩膜结构层同层设置,所述封装结构与所述第二彩膜结构层对应设置。

在本申请所提供的显示面板中,所述第一彩膜结构层包括红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层中的一种或几种的组合。

在本申请所提供的显示面板中,所述彩膜基板包括氧化铟锡层,所述第二配向层覆盖所述氧化铟锡层,所述彩膜基板包括第一挡墙,至少部分所述增强区域设置有所述第一挡墙,所述第一挡墙设置于所述氧化铟锡层上,所述第一挡墙用于阻挡所述第二配向层,其中,所述封装结构至少部分与所述氧化铟锡层接触。

在本申请所提供的显示面板中,所述第一挡墙的高度与所述第二配向层的膜层厚度相同。

在本申请所提供的显示面板中,所述封装结构覆盖所述第一挡墙。

在本申请所提供的显示面板中,所述显示面板还包括第一挡墙,所述第一挡墙设置于所述氧化铟锡层上,所述第一挡墙用于阻挡所述第一配向层,所述第一挡墙位于所述封装结构的外围。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL华星光电技术有限公司,未经TCL华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911330030.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top