[发明专利]照明光学系统、曝光装置以及产品的制造方法有效

专利信息
申请号: 201911333037.5 申请日: 2019-12-23
公开(公告)号: CN111381455B 公开(公告)日: 2023-04-28
发明(设计)人: 中山谅;小林大辅 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 许海兰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 照明 光学系统 曝光 装置 以及 产品 制造 方法
【说明书】:

本发明涉及照明光学系统、曝光装置以及产品的制造方法,提供一种有益于使与照明模式对应的能量密度的光入射到光学积分器的技术。使用来自光源的光对被照明面进行照明的照明光学系统包括:生成部,使来自光源的光衍射,将多个种类的光强度分布中选择出的光强度分布生成于光瞳面;光学积分器,配置于生成部与被照明面之间的光路上;及光透射部件,配置于生成部与光学积分器之间的光路上,多个种类的光强度分布包括光瞳面处的分布形状相互不同的第1光强度分布和第2光强度分布,光透射部件包括在第1光强度分布生成时和第2光强度分布生成时光共同地透射的第1区域和第1区域以外的第2区域,第1区域包括光的发散程度比第2区域高的发散部。

技术领域

本发明涉及照明光学系统、使用照明光学系统的曝光装置以及产品的制造方法。

背景技术

通过照明光学系统对原版进行照明并将该原版的图案经由投影光学系统投影到基板的曝光装置为了使吞吐量提高而推进光源的高输出化。然而,如果使光源高输出化,则可能会促进用于曝光装置的光学元件的玻璃材料性能的降低。在专利文献1中,提出了在照明光学系统内的光路中配置使光散射的散射构造体的方案。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利第4933671号公报

发明内容

曝光装置根据形成于原版的电路图案的种类,能够使用大σ照明、小σ照明、四极照明等各种照明模式。然而,根据照明模式的不同,有时会缩小光瞳面处的光强度分布的尺寸,在使来自光源的光衍射而将期望的光强度分布生成于光瞳面的方式的照明光学系统中,光的能量密度可能根据光强度分布的缩小而增加。在该情况下,高能量密度的光入射到光学积分器的一部分,会进一步促进该一部分处的玻璃材料性能的降低,所以最好使光的能量密度减少。另一方面,在专利文献1记载的方法中,无论照明模式如何,都在整个光路中配置扩散构造体,所以在无需使光的能量密度减少的照明模式下也会使光的能量密度减少而像面照度可能降低。

因此,目的在于提供一种有益于使与照明模式对应的能量密度的光入射到光学积分器的技术。

为了达成上述目的,作为本发明的一个方面的照明光学系统使用来自光源的光对被照明面进行照明,所述照明光学系统的特征在于,包括:生成部,使来自所述光源的光衍射,将多个种类的光强度分布中选择出的光强度分布生成于光瞳面;光学积分器,配置于所述生成部与所述被照明面之间的光路上;以及光透射部件,配置于所述生成部与所述光学积分器之间的光路上,所述多个种类的光强度分布包括所述光瞳面处的分布形状相互不同的第1光强度分布以及第2光强度分布,所述光透射部件包括在所述第1光强度分布的生成时和所述第2光强度分布的生成时光共同地透射的第1区域和所述第1区域以外的第2区域,所述第1区域包括光的发散程度比所述第2区域高的发散部。

为了达成上述目的,作为本发明的一个方面的曝光装置,对基板进行曝光,所述曝光装置的特征在于,包括:照明光学系统,使用来自光源的光对原版进行照明;以及投影光学系统,将所述原版的图案投影到基板上,所述照明光学系统包括:生成部,使来自所述光源的光衍射,将多个种类的光强度分布中选择出的光强度分布生成于光瞳面;光学积分器,配置于所述生成部与所述被照明面之间的光路上;以及光透射部件,配置于所述生成部与所述光学积分器之间的光路上,所述多个种类的光强度分布包括所述光瞳面处的分布形状相互不同的第1光强度分布以及第2光强度分布,所述光透射部件包括在所述第1光强度分布的生成时和所述第2光强度分布的生成时光共同地透射的第1区域和所述第1区域以外的第2区域,所述第1区域包括光的发散程度比所述第2区域高的发散部。

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