[发明专利]压力清洗机系统

权利要求书

1.一种压力清洗机系统，包括：

流体泵，所述流体泵具有流体入口和流体出口；

流量传感器，所述流量传感器与所述流体入口和所述流体出口中的一个流体连通；

内燃机，所述内燃机以驱动方式与所述流体泵连通；和

控制模块，所述控制模块安装到所述流体泵，所述控制模块被配置成接收通过所述流体泵的流量的指示，并且当所述内燃机不运行时，响应于接收到通过所述流体泵的流量的所述指示而控制所述内燃机的起动操作以起动所述内燃机，其中，所述控制模块包括处理器和与所述处理器连接的存储器，所述处理器被配置成执行计算机程序代码，所述计算机程序代码包括用于以下操作的指令：

监控一个或多个系统特性；

限定所述压力清洗机系统的多个离散操作状态；以及

至少部分地基于所述一个或多个系统特性中的一个或多个以及与所述压力清洗机系统交互的一个或多个用户交互作用，使所述压力清洗机系统在所述多个离散操作状态之间转变。

2.如权利要求1所述的压力清洗机系统，其中，所述控制模块通过一个或多个振动隔离构件安装到所述流体泵。

3.如权利要求2所述的压力清洗机系统，其中，所述一个或多个振动隔离构件包括相应的橡胶衬套和压缩套筒，所述橡胶衬套沿着所述橡胶衬套的外部附接到控制模块安装支架，所述压缩套筒延伸穿过所述橡胶衬套的大致中心部分以用于容纳将所述控制模块安装支架固定到所述流体泵的紧固件。

4.如权利要求1所述的压力清洗机系统，其中，所述控制模块设置在控制模块壳体的空腔内，所述控制模块壳体还包括电池接口，所述电池接口用于将电池能够移除地机械联接到所述控制模块壳体，并用于将所述电池能够移除地电连接到所述控制模块。

5.如权利要求1所述的压力清洗机系统，其中，所述流量传感器包括：

传感器室，所述传感器室具有与所述传感器室的下部区域相关联的流体入口和与所述传感器室的上部区域相关联的流体出口，以限定通过所述传感器室的流体路径；

阻挡元件，所述阻挡元件设置在所述传感器室内，所述阻挡元件在无流动状态下邻近所述传感器室的所述下部区域安置，并且在流体流动通过所述传感器室期间朝向所述传感器室的所述上部区域升高；和

感测组件，所述感测组件包括光学发射器和光学接收器，所述光学发射器和光学接收器限定通过所述传感器室的光路，所述阻挡元件在所述无流动状态下至少部分地阻挡所述光路，并且在流体流动通过所述传感器室期间，所述阻挡元件至少部分地位于所述光路外部。

6.如权利要求5所述的压力清洗机系统，其中，所述传感器室的所述上部区域包括用于在流体流动通过所述传感器室期间促进流体通过所述流体出口的一个或多个通道。

7.如权利要求5所述的压力清洗机系统，其中，所述阻挡元件具有在1.09到1.20之间的比重。

8.如权利要求5所述的压力清洗机系统，还包括传感器校准模块，所述传感器校准模块被配置为：

将功率提供给所述光学发射器，使所述光学发射器基于所述功率生成光学信号；

响应于接收到所述光学信号，测量所述光学接收器的输出；以及

调节到所述光学发射器的所述功率，以使得所述光学接收器的输出具有预定阈值和预定阈值范围中的一种或多种。

9.如权利要求8所述的压力清洗机系统，其中，所述传感器校准模块被配置成响应于接收到所述光学信号，至少部分地基于所述光学接收器的历史测量到的输出，调节到所述光学发射器的功率。

10.如权利要求8所述的压力清洗机系统，其中，所述控制模块包括所述传感器校准模块。