[发明专利]一种基于光散射响应的气溶胶粒谱、浓度测量方法有效
申请号: | 201911335556.5 | 申请日: | 2019-12-23 |
公开(公告)号: | CN110987737B | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
发明(设计)人: | 朱明;林梦雪;邓田 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G01N15/02 | 分类号: | G01N15/02;G01N15/06 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 李智 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 散射 响应 气溶胶 浓度 测量方法 | ||
1.一种基于光散射响应的气溶胶粒谱测量方法,其特征在于,包括:
S1.对于待测气溶胶粒子群,分别建立N种粒径的目标测量粒子在不同波长入射光作用下的散射光强与各粒子体积和表面积间的线性组合关系,得到散射光强与各粒子对应的表面积组合系数与体积组合系数,选取使各粒子对应的体积组合系数呈等差递增或表面积组合系数呈等差递减的M种波长光作为实际测量中采用的入射光;
S2.对上述M种波长光,分别计算单一波长入射光在单一粒子作用下的散射光强,得到散射光强与粒子粒度依赖于表面积浓度和体积浓度线性组合的行满秩转换矩阵;
S3.分别采集上述M种波长的入射光在待测气溶胶作用下的散射光强度,根据上述转换矩阵,得到气溶胶粒度;
S4.根据气溶胶粒度与目标测量粒子的粒径大小,计算待测气溶胶的概率密度函数。
2.根据权利要求1所述的一种基于光散射响应的气溶胶粒谱测量方法,其特征在于,步骤S1具体包括:
S1.1.对于目标测量的N种粒子粒径di,i=1,...,N,通过仿真计算各波长入射光在各粒子作用下的散射光强度Eki;其中,Eki表示第k种波长入射光在第i种粒子作用下得到的散射光强度;k=1,...,K,KM,K表示仿真计算采用的入射光波长种类;
S1.2.采用线性函数拟合各波长入射光在各粒子作用下的散射光强度;
其中,f(eki)表示第k种波长入射光在第i种粒子作用下得到的散射光强度的拟合值,Vi表示第i种粒子的体积,表示第k种波长入射光作用下第i种粒子的体积组合系数,Si表示第i种粒子的表面积,表示第k种波长入射光作用下第i种粒子的表面积组合系数;
S1.3.根据拟合结果,选用使各粒子体积组合系数等差递增或表面积组合系数等差递减的M种波长光作为实际测量中预采用的入射光。
3.根据权利要求1所述的一种基于光散射响应的气溶胶粒谱测量方法,其特征在于,步骤S2具体包括:
S2.1.对于目标测量的N种粒子粒径di,i=1,...,N,分别计算各粒子在不同波长入射光照射下得到的散射光强Eji;其中,Eji表示第j种波长入射光在第i种粒子作用下得到的散射光强度;j=1,...,M,M表示实际测量中采用的入射光波长种类;
S2.2.根据公式计算散射光强Eji与第i种粒子粒度的转换系数Tji,并将所有粒子在所有波长下的转换系数拼接为依赖于表面积浓度和体积浓度线性组合的行满秩转换矩阵TM×N。
4.根据权利要求1或2所述的一种基于光散射响应的气溶胶粒谱测量方法,其特征在于,步骤S3具体包括:
S3.1.将M种波长的入射光依次扫描待测气溶胶,得到M种散射光强EM×1;
S3.2.通过公式EM×1=TM×N×WN×1计算待测气溶胶中N种粒径的粒度WN×1。
5.根据权利要求1或2所述的一种基于光散射响应的气溶胶粒谱测量方法,其特征在于,S4具体为:根据待测气溶胶中N种粒径的粒度WN×1与粒径di的大小,根据以下公式计算待测气溶胶的概率密度函数fN×1;
Wi=f(di)×di
其中,Wi为粒度WN×1中的元素;di为气溶胶中第i种粒子的粒径;f(di)为气溶胶中第i种粒子的概率密度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911335556.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。