[发明专利]一种硫化物电解质及其制备方法

权利要求书

1.一种硫化物电解质，其特征在于：所述硫化物电解质为Li_4-xGe_1-xM_xS₄；所述硫化物电解质中，含有部分晶化的Li_4-xGe_1-xM_xS₄；所述硫化物电解质中包括质量为所述硫化物电解质质量1-3％的硅微晶；

所述硫化物电解质中，晶化的Li_4-xGe_1-xM_xS₄和非晶化的Li_4-xGe_1-xM_xS₄的质量比为1：5～1：20；

所述部分晶化的Li_4-xGe_1-xM_xS₄的平均粒径为0.01～50μm，平均比表面积为1～20m²/g；

所述Li_4-xGe_1-xM_xS₄中，M为P、Zn、Ga、Al、Ti中的任意一种；其中0.6≤x≤1.0。

2.根据权利要求1所述的一种硫化物电解质，其特征在于，所述Li_4-xGe_1-xM_xS₄中，M为P；其中0.6≤x≤1.0。

3.根据权利要求1所述的一种硫化物电解质，其特征在于，所述硅微晶的平均粒径为1～500nm；所述硅微晶的平均比表面积为10～100m²/g。

4.一种如权利要求1所述的硫化物电解质的制备方法，其特征在于，具体制备步骤为：

(1)准备原料；

(2)于惰性气体保护状态下，将硫化锂、硫化锗、和MS按照Li：Ge：M：S摩尔比为(4-x)：(1-x)：x：4球磨混合，得球磨料；

(3)向球磨料中加入球磨料质量1～3％的硅微晶，搅拌混合后，压片，得坯体；

(4)将坯体微波热处理。

5.根据权利要求4所述的一种硫化物电解质的制备方法，其特征在于，具体制备步骤为：

(1)准备原料；

(2)于惰性气体保护状态下，将硫化锂、硫化锗、和MS按照Li：Ge：M：S摩尔比为(4-x)：(1-x)：x：4球磨混合，得球磨料；

(3)向球磨料中加入球磨料质量1-3％的硅微晶，搅拌混合后，压片，得坯体；

(4)将坯体于微波功率为200～400W条件下，加热至250～350℃，保温热处理1～3h后，出料，即得。