[发明专利]多晶硅铸锭石英坩埚复合涂层及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种多晶硅铸锭石英坩埚复合涂层，其特征在于，包括同步烘干后烧结在坩埚表面的氧化硅层和氮化硅层，氧化硅层作为粘结层连接氮化硅层与多晶硅铸锭石英坩埚。

2.根据权利要求1所述多晶硅铸锭石英坩埚复合涂层，其特征是，所述氧化硅层采用混合浆料一烘干后烧结而成，混合浆料一按重量比例包括：10％-20％硅溶胶、25％-60％硅微粉、10％-20％片状氧化硅、5％-10％水溶性聚合物和15％-45％去离子水。

3.根据权利要求2所述多晶硅铸锭石英坩埚复合涂层，其特征是，所述硅溶胶D50粒径为10-90nm，纯度为99.999％-99.9999％。

4.根据权利要求2所述多晶硅铸锭石英坩埚复合涂层，其特征是，所述硅微粉D50粒径为0.5-5μm，纯度为99.999％-99.9999％。

5.根据权利要求2所述多晶硅铸锭石英坩埚复合涂层，其特征是，所述片状氧化硅D50粒径为5-20μm，纯度为99.999％-99.9999％。

6.根据权利要求2所述多晶硅铸锭石英坩埚复合涂层，其特征是，所述水溶性聚合物包括聚乙二醇、聚乙烯醇、纤维素醚中至少一种。

7.根据权利要求1所述多晶硅铸锭石英坩埚复合涂层，其特征是，所述釉层采用混合浆料二烘干后烧结而成，混合浆料二按重量比例包括：30％-50％氮化硅、15％-25％硅溶胶和30％-50％水。

8.一种多晶硅铸锭石英坩埚复合涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1，按比例将硅溶胶、硅微粉、片状氧化硅、聚乙二醇加入到去离子水中，混合均匀得到混合浆料一；之后采用混合浆料一刷涂坩埚，厚度控制在0.5-0.7mm，自然晾干备用；

S2，按比例将氮化硅、硅溶胶加入去离子水中，混合均匀得到混合浆料二；之后采用混合浆料二涂刷经步骤S1处理的坩埚，厚度控制在0.1-0.2mm，自然晾干；

S3，将经步骤S2处理的坩埚加热烘干，再在抽真空条件下高温烧结，在多晶硅铸锭石英坩埚表面形成复合涂层。

9.根据权利要求8所述多晶硅铸锭石英坩埚复合涂层的制备方法，其特征是，所述烧结温度为1100-1300℃，升温速率1-10℃/min，烧结时间1-10h。

10.一种多晶硅铸锭石英坩埚，其特征在于，多晶硅铸锭石英坩埚内侧表面设有权利要求1所述多晶硅铸锭石英坩埚复合涂层。