[发明专利]一种完全固溶态钼铌合金粉及制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201911343271.6 申请日: 2019-12-24
公开(公告)号: CN110976888B 公开(公告)日: 2022-08-26
发明(设计)人: 吴小超;李庆奎;杨凯军;何季麟;李海光;张丹阳 申请(专利权)人: 郑州大学
主分类号: B22F9/04 分类号: B22F9/04;B22F3/04;B22F3/10;C23C14/34
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 邹仕娟
地址: 450001 *** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 完全 固溶态钼铌 合金粉 制备 方法 应用
【说明书】:

发明公开了一种完全固溶态钼铌合金粉及制备方法和应用,该钼铌合金粉是通过在250~300rpm下高能球磨36~24h使重量比为9:1的钼粉和铌粉实现钼铌完全固溶而获得的,并且颗粒内部结晶尺寸在纳米级别。通过该钼铌合金粉制备的钼铌合金靶材的致密化程度高、孔隙率低、元素分布均匀性、组织均匀性都有极大提高,靶材晶粒平均尺寸<10μm,晶粒均匀因子为1.777。

技术领域

本发明涉及一种钼铌合金粉,具体涉及一种完全固溶态钼铌合金粉及制备方法和应用。

背景技术

钼是一种过渡元素,熔点很高,在自然界单质中名列第六,被称作难熔金属,还具有高导电率、低比阻抗、耐腐蚀以及无污染环保等性能,其被广泛应用在电子和信息行业,如信息存储、集成电路、平面显示器、电子控制器件、电容器等。随着平板显示器和薄膜太阳能电池行业的蓬勃发展,钼具有巨大的应用市场和广阔的应用前景,钼因具比阻抗和膜应力仅为铬的1/2并且环境污染等优势,逐渐成为平面显示器溅射靶材的首选材料之一。在钼靶中加入5%-10%(质量分数)的铌可以提高其耐蚀、热稳定及比阻抗性能。基于Mo-10Nb溅射靶材表现出其独特的优良性能,其应用市场需求量巨大,研究高端钼铌溅射靶材具有广阔的应用前景。

钼和铌都是高熔点的难熔金属(钼和铌的熔点分别为2893K和2741K),因此钼铌溅射靶材的主要制备方法为粉末冶金技术。而国内真空烧结的钼铌靶材中钼铌元素分布不均匀,存在相分离现象且两相结合力弱,轧制时易开裂,并且,在致密度、孔隙率、晶粒尺寸既均匀性方面均与国外高端产品有不小差距,有待进一步提高。

发明内容

本发明的目的是提供一种完全固溶态钼铌合金粉及制备方法和应用,该钼铌合金粉解决了现有钼铌靶材中钼铌相分离、元素分布不均匀、致密度低、晶粒度较大等问题,其制备的钼铌靶材致密度好,孔隙率低,晶粒细化,元素及组织均匀性得到极大提升。

为了达到上述目的,本发明提供了一种完全固溶态钼铌合金粉,该钼铌合金粉是通过在250~300rpm下高能球磨36~24h使重量比为9:1的钼粉和铌粉实现完全固溶态而获得的。

优选地,该钼铌合金粉的D50为2.586~2.634μm,D10-D90为1.306~5.852μm。

本发明还提供了一种所述的完全固溶态钼铌合金粉的制备方法,该方法包含:

通过将高纯钼粉和高纯铌粉按照重量比9:1混合,进行干法高能球磨以实现钼铌粉末的完全固溶,采用直径为5~20mm的三种磨球,该三种磨球的质量配比为5:3:2,球料比为3~10:1,在1个大气压氩气环境中间歇式进行球磨,球磨转速为250~300rpm,球磨时间为36~24h,得到完全固溶态Mo-10Nb合金粉末。

优选地,所述间歇式进行球磨,为每球磨2h停30min。

本发明还提供了一种采用完全固溶态钼铌合金粉制备Mo-10Nb靶材的方法,该方法包含:

将所述的完全固溶态钼铌合金粉置于模具中,进行预压成型,压制压力压制压力为60~100MPa,压制10s,停顿5s,压制时间共计30s;

将所述预压成型的生坯真空封装,真空度在-0.08MPa以下,采用冷等静压机进行冷等静压,采用梯度升压,每级参数呈梯度设置直至达到目标压力,目标压力为180~230MPa,保压时间为10~20min;

待压制结束,进行卸压,卸压每次保压10s起到缓冲作用;

将所述冷等静压压制好的生坯进行真空烧结,真空度小于1×10-2Pa;进行升温,升温速率全程小于10℃/min,炉内真空度全程小于1×10-2Pa,真空烧结保温温度为1800~1950℃,保温时间3~6h;

待保温结束后随炉冷却至60℃以下,再开炉冷却至室温,得到Mo-10Nb靶材。

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