[发明专利]一种差分铌酸锂调制器有效
申请号: | 201911344423.4 | 申请日: | 2019-12-23 |
公开(公告)号: | CN110989215B | 公开(公告)日: | 2022-07-01 |
发明(设计)人: | 张宇光;肖希;李淼峰;胡晓;陈代高;王磊;冯朋;余少华 | 申请(专利权)人: | 武汉邮电科学研究院有限公司;武汉光谷信息光电子创新中心有限公司 |
主分类号: | G02F1/03 | 分类号: | G02F1/03;G02F1/035 |
代理公司: | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人: | 李斯 |
地址: | 430074 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 种差 分铌酸锂 调制器 | ||
1.一种差分铌酸锂调制器,其特征在于,从下往上依次包括基底层(1)、衬底层(2)、集成波导层(3)和覆盖层(4),所述集成波导层(3)包括铌酸锂波导层(301)和两个间隔分布的高折射率层(302),所述高折射率层(302)位于所述铌酸锂波导层(301)和覆盖层(4)之间;同时,
所述调制器还包括第一电极组(5)、两个相对设置的第二电极组(6),所述第一电极组(5)位于所述衬底层(2)内,两个所述第二电极组(6)位于所述集成波导层(3)上方;
所述第一电极组(5)从下往上依次包括直接接触的第一金属电极(501)和第一导电层(502),且两个所述高折射率层(302)的投影均位于所述第一导电层(502)上;
所述第二电极组(6)从下往上依次包括直接接触的第二导电层(601)和第二金属电极(602),且所述第二导电层(601)对应分布于一个所述高折射率层(302)的正上方。
2.如权利要求1所述的差分铌酸锂调制器,其特征在于:所述衬底层(2)为低折射率材料,且所述衬底层(2)的厚度不小于2um。
3.如权利要求1所述的差分铌酸锂调制器,其特征在于:所述第一导电层(502)和第二导电层(601)的厚度不超过50nm。
4.如权利要求1所述的差分铌酸锂调制器,其特征在于:所述铌酸锂波导层(301)的厚度不超过1um。
5.如权利要求1所述的差分铌酸锂调制器,其特征在于:所述高折射率层(302)的折射率不小于1.8。
6.如权利要求1所述的差分铌酸锂调制器,其特征在于:所述第一金属电极(501)和第二金属电极(602)的高度不小于500nm。
7.如权利要求1所述的差分铌酸锂调制器,其特征在于:所述第一金属电极(501)和第二金属电极(602)的宽度不小于10um。
8.如权利要求1所述的差分铌酸锂调制器,其特征在于:所述覆盖层(4)的折射率不大于1.8。
9.如权利要求1所述的差分铌酸锂调制器,其特征在于:所述第一导电层(502)直接贴合于所述铌酸锂波导层(301)上,所述第二导电层(601)直接贴合于所述高折射率层(302)上。
10.如权利要求1所述的差分铌酸锂调制器,其特征在于:所述第一导电层(502)和铌酸锂波导层(301)之间、以及所述第二导电层(601)和高折射率层(302)之间均设有隔离层,所述隔离层为低折射率材料。
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