[发明专利]陶瓷件的表面处理方法、电子设备及其壳体在审
| 申请号： | 201911346619.7 | 申请日： | 2019-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN110949051A | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 赵岩峰 | 申请（专利权）人： | OPPO广东移动通信有限公司 |
| 主分类号： | B44C5/04 | 分类号： | B44C5/04;B44C1/22;B44C1/00 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 尚伟净 |
| 地址： | 523860 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 陶瓷 表面 处理 方法 电子设备 及其 壳体 | ||
1.一种陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，包括：
在所述陶瓷件的表面形成光学镀膜层；
在所述光学镀膜层远离所述陶瓷件的表面形成隔热膜；
退去未被所述隔热膜保护的所述光学镀膜层，以形成光学镀膜图案；
对所述陶瓷件和所述隔热膜的表面进行激光镭射处理，以使未被所述隔热膜保护的所述陶瓷件的表面具有纹理；
去除所述隔热膜。
2.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，形成所述隔热膜的材料包括金属、橡胶和陶瓷中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述隔热膜的厚度为0.05～0.3mm。
4.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述隔热膜的横截面形状包括标志、汉字和字符中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述退去使用的退镀液为酸性、碱性或中性的。
6.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述激光镭射处理形成的所述纹理的深度为0.01～0.2mm、线宽为0.02～0.2mm且线距为0.05～0.3mm。
7.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述陶瓷件包括电子设备的壳体的至少部分。
8.一种电子设备的壳体，其特征在于，所述壳体的至少部分由陶瓷件形成，且所述陶瓷件由权利要求1～7中任一项所述的表面处理方法获得。
9.根据权利要求8所述的壳体，其特征在于，所述壳体的中框、后盖、按键和摄像头支架中的至少之一是由所述陶瓷件形成的。
10.一种电子设备，其特征在于，包括：
权利要求8或9所述的壳体；
显示装置，所述显示装置与所述壳体相连。
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