[发明专利]水钻或水晶配件金属反光镂空镶嵌结构饰品及其加工方法在审

专利信息
申请号: 201911347771.7 申请日: 2019-12-24
公开(公告)号: CN111466686A 公开(公告)日: 2020-07-31
发明(设计)人: 黄向文 申请(专利权)人: 黄向文
主分类号: A44C25/00 分类号: A44C25/00;A44C17/00;A44C17/04;A44C17/02;A44C27/00
代理公司: 宁波奥圣专利代理事务所(普通合伙) 33226 代理人: 周珏
地址: 322134 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 水钻 水晶 配件 金属 反光 镂空 镶嵌 结构 饰品 及其 加工 方法
【权利要求书】:

1.一种水钻或水晶配件金属反光镂空镶嵌结构饰品,包括水钻或水晶配件,其特征在于:所述的水钻或所述的水晶配件的外表面上依次紧贴设置有打底反光导电层和金属外层形成半成品,所述的半成品上针对由所述的打底反光导电层和所述的金属外层构成的镶嵌载体设置有若干个镂空图案结构,使所述的水钻或所述的水晶配件的部分表面通过所述的镂空图案结构显露出形成具有金属层次质感的金属反光镂空镶嵌结构饰品。

2.根据权利要求1所述的水钻或水晶配件金属反光镂空镶嵌结构饰品,其特征在于:所述的打底反光导电层由自内而外依次设置的打底层、银反光层和铜导电层组成,所述的打底层为在所述的水钻或所述的水晶配件的外表面上真空电镀一层钛或真空电镀一层硅或真空电镀一层铬形成,所述的银反光层为在所述的打底层的外表面上真空电镀一层银形成,所述的铜导电层为在所述的银反光层的外表面上真空电镀一层铜形成,所述的金属外层为在所述的铜导电层的外表面上电沉积一层铜形成。

3.根据权利要求1所述的水钻或水晶配件金属反光镂空镶嵌结构饰品,其特征在于:所述的打底反光导电层由自内而外依次设置的钛打底反光层和铜导电层组成,所述的钛打底反光层为在所述的水钻或所述的水晶配件的外表面上真空电镀一层钛形成,所述的铜导电层为在所述的钛打底反光层的外表面上真空电镀一层铜形成,所述的金属外层为在所述的铜导电层的外表面上电沉积一层铜形成。

4.根据权利要求1所述的水钻或水晶配件金属反光镂空镶嵌结构饰品,其特征在于:所述的打底反光导电层由自内而外依次设置的打底层和银反光导电层组成,所述的打底层为在所述的水钻或所述的水晶配件的外表面上真空电镀一层钛或真空电镀一层硅或真空电镀一层铬形成,所述的银反光导电层为在所述的打底层的外表面上真空电镀一层银形成,所述的金属外层为在所述的银反光导电层的外表面上电沉积一层铜形成。

5.根据权利要求1所述的水钻或水晶配件金属反光镂空镶嵌结构饰品,其特征在于:所述的打底反光导电层由自内而外依次设置的打底层和银反光导电层组成,所述的打底层为在所述的水钻或所述的水晶配件的外表面上真空电镀一层钛或真空电镀一层硅或真空电镀一层铬形成,所述的银反光导电层为在所述的打底层的外表面上真空电镀一层银形成,所述的金属外层为在所述的银反光导电层的外表面上电沉积一层银形成。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的水钻或水晶配件金属反光镂空镶嵌结构饰品,其特征在于:在电沉积所述的金属外层前,电镀一层碱铜或焦磷酸铜作为过渡镀层。

7.根据权利要求6所述的水钻或水晶配件金属反光镂空镶嵌结构饰品,其特征在于:所述的镂空图案结构为对所述的镶嵌载体喷蚀刻保护油墨或电泳蚀刻保护漆后进行蚀刻形成。

8.根据权利要求7所述的水钻或水晶配件金属反光镂空镶嵌结构饰品,其特征在于:所述的镂空图案结构呈与所述的水钻或所述的水晶配件的表面相同的形状,所述的镂空图案结构的周边设计为各种花边状,所述的镶嵌载体未设置有所述的镂空图案结构的区域上锡焊接或激光焊接有金属配件,所述的镶嵌载体未设置有所述的镂空图案结构的区域上设置有装饰镀。

9.根据权利要求1所述的水钻或水晶配件金属反光镂空镶嵌结构饰品,其特征在于:所述的水钻或所述的水晶配件替换为饰品宝石或饰品锆石。

10.一种水钻或水晶配件金属反光镂空镶嵌结构饰品,包括水钻或水晶配件,其特征在于:所述的水钻或所述的水晶配件经轰击电源轰击后所述的水钻或所述的水晶配件的外表面上依次紧贴设置有反光导电层和金属外层形成半成品,所述的半成品上针对由所述的反光导电层和所述的金属外层构成的镶嵌载体设置有若干个镂空图案结构,使所述的水钻或水晶配件的部分表面通过所述的镂空图案结构显露出形成具有金属层次质感的金属反光镂空镶嵌结构饰品。

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