[发明专利]一种缓解相变存储器写干扰的方法及系统有效

专利信息
申请号: 201911348124.8 申请日: 2019-12-24
公开(公告)号: CN111210858B 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 蔡晓军;靳文科;蔡文浩;陆思奇;张志宇;刘忠洋 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: G11C13/00 分类号: G11C13/00
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 李琳
地址: 266237 *** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 缓解 相变 存储器 干扰 方法 系统
【说明书】:

本公开提供了一种缓解相变存储器写干扰的方法及系统,在位线层面,利用动态查找空闲主存块以确定可回写可靠空闲主存块,实现动态感知;在字线层面,将新数据与预期数据作对比,检测是否有写干扰错误发生,如果出现了写干扰,则进行纠正操作。本公开对PCM存储器的性能和开销做出了一定的平衡,有效缓解了PCM写干扰错误的发生,保证了数据存储的可靠性,从根本上避免了因级联引起的性能损失,减少了PCM的整体性能损失。

技术领域

本公开属于非易失存储器技术领域,涉及一种缓解相变存储器写干扰的方法及系统。

背景技术

本部分的陈述仅仅是提供了与本公开相关的背景技术信息,不必然构成在先技术。

随着大数据时代的到来,对存储器的性能需求也是水涨船高,构建高访问带宽、高缩放性和高密度的主存系统已成为现代计算系统面临的主要挑战。然而,传统的DRAM存储器掉电丢失数据,且密度及缩放性已面临发展瓶颈。这些不足之处限制了DRAM的性能提高,使其无法紧跟大数据存储的脚步。近年来的研究发现,相变存储器(PhaseChangeMemory,PCM)作为一种新兴的非易失存储器,具有较小的读写延迟和良好的缩放性,极具发展前景。较之DRAM,PCM具有非易失(即掉电数据不丢失)、高密度等优势,是最有前途的低功耗主存技术之一。

PCM存储器主要依靠一种相变材料来实现编程,即Ge2Sb2Te5(简称GST)。当GST的编程区域处于完全结晶状态时,PCM单元的阻值大约为103Ω,当GST的编程区域处于完全熔融状态时,PCM单元的阻值大约为105Ω。由此可见,编程区域状态(晶态或非晶态)不同的PCM单元之间阻值差异较大,足以分别用于表示二进制代码‘1’与‘0’,晶态(低阻态)表示‘1’,非晶态(高阻态)表示‘0’。PCM单元的阻值介于103Ω~104Ω之间,一般认为存储值为‘1’,阻值介于104Ω~105Ω之间,一般认为存储值为‘0’,其中阻值104Ω正是区分‘1’与‘0’的阈值。PCM单元通过电脉冲实现编程,即写‘1’和写‘0’。向PCM单元施加一个强度较低、持续时间较长的电脉冲(即进行置位操作(SET)),使得温度达到GST的结晶点但低于熔点(大约300℃),则编程区域会由初始状态(晶态或非晶态)转为晶态,完成写‘1’的操作,该PCM单元存储二进制代码‘1’。向PCM单元施加一个强度较高、持续时间较短的电脉冲(即进行重置操作(RESET)),使得温度达到GST的熔点并迅速淬火(大约600℃),则编程区域会由初始状态(晶态或非晶态)转为非晶态,完成写‘0’的操作,该PCM单元存储二进制代码‘0’。

PCM有望成为DRAM的替代者,但在编程层面仍存在不足之处。作为高密度主存储器,PCM在20nm技术结点下面临着严重的写干扰问题。写干扰指的是当一个PCM单元x在进行RESET操作时,需要加热器提供高于GST熔点的温度(大约600℃),在编程期间不可避免地向周围单元散热,且散热的温度高于GST的结晶点但低于熔点(大约300℃)。若邻居单元y存储‘0’(即处于非晶态),且没有针对该单元的读写操作,那么单元y可能会受到邻居单元x散热的影响,由非晶态转为晶态(因为邻居单元x散热温度足以达到GST的结晶点),从而改变了单元y的存储值。通过总结可以得出写干扰发生的条件如下:(1)PCM单元y存储‘0’(即非晶态)且处于空闲状态(即无读写操作);(2)单元y的邻居单元x正在进行RESET操作。写干扰现象会导致更多的单元编程错误,从而降低存储的可靠性。SET操作的散热温度较低,不会对邻居单元造成干扰,故只考虑RESET操作所引起的写干扰。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东大学,未经山东大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911348124.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top