[发明专利]中空PMMA@SiO2

权利要求书

1.一种PC光扩散板，其特征在于，该光扩散板以聚碳酸酯为基体，中空PMMA@SiO₂光扩散剂分散于聚碳酸酯基体中，所述的中空PMMA@SiO₂光扩散剂为PMMA复合SiO₂中空小球，PMMA包裹于经过表面改性的中空SiO₂表面；

所述的PC光扩散板的制备方法，先制备中空SiO₂，并通过有机硅烷基化中空SiO₂，然后在烷基化中空SiO₂表面包裹PMMA，得到中空PMMA@SiO₂光扩散剂，再按照配比将聚碳酸酯、中空PMMA@SiO₂光扩散剂和抗氧剂混合，熔融混合均匀，压片，制得所述的PC光扩散板。

2.根据权利要求1所述的中空PMMA@SiO₂光扩散剂，其特征在于，中空SiO₂的表面改性为烷基化表面改性，中空SiO₂的粒径为400-800nm。

3.根据权利要求1所述的PC光扩散板，其特征在于，该光扩散板由中空PMMA@SiO₂光扩散剂、抗氧剂和聚碳酸酯按照重量比0.01-2:0.2:100组成。

4.如权利要求1所述的PC光扩散板的制备方法，其特征在于，先制备中空SiO₂，并通过有机硅烷基化中空SiO₂，然后在烷基化中空SiO₂表面包裹PMMA，得到中空PMMA@SiO₂光扩散剂，再按照配比将聚碳酸酯、中空PMMA@SiO₂光扩散剂和抗氧剂混合，熔融混合均匀，压片，制得所述的PC光扩散板。

5.根据权利要求4所述的PC光扩散板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)在室温搅拌条件下，将水和乙醇的混合液与十六烷基三甲基溴化铵搅拌均匀，缓慢滴加氨水以及四乙氧基硅烷和γ-氨丙基三乙氧基硅烷的混合溶液，反应，洗涤，干燥，制得中空二氧化硅小球，即为所述的中空SiO₂；

(2)取所述的中空SiO₂溶于甲苯中，加入硅烷偶联剂，超声处理，在110℃-130℃的条件下反应，然后静置，洗涤，干燥，得到烷基化中空SiO₂；

(3)取所述的烷基化中空SiO₂，溶解于水中，加入十二烷基硫酸钠、壬基酚聚氧乙烯醚和异丙醇，在70-80℃条件下，缓慢滴加MMA和0.1％-0.5％KSP的混合液，在75-85℃的环境下反应，洗涤，干燥，得到中空PMMA@SiO₂光扩散剂；

(4)按照配比，取中空PMMA@SiO₂光扩散剂、聚碳酸酯和抗氧剂，混合，并且密炼机搅拌，控制物料温度在240℃-250℃之间，搅拌均匀后，用压片机制片，成型温度在250℃-300℃，得到所述的PC光扩散板。

6.根据权利要求5所述的PC光扩散板的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，包括以下条件中的任一项或多项：

(1-1)水和乙醇的混合液中，水和乙醇体积比1:1-1:3；

(1-2)四乙氧基硅烷和γ-氨丙基三乙氧基硅烷的体积比为1:2-2:1；

(1-3)水和乙醇的混合液、十六烷基三甲基溴化铵、氨水、四乙氧基硅烷和γ-氨丙基三乙氧基硅烷的混合溶液的使用量之比为20-80ml:0.02-0.12g:0.3-0.8ml:1.0-2.0ml；

(1-4)反应时间为6h。