[发明专利]光栅拼接校正方法、装置以及光栅拼接校正系统

权利要求书

1.一种光栅拼接校正方法，其特征在于，应用于光栅拼接校正系统，所述光栅拼接校正系统包括第一光栅、第二光栅、第一反射部、第二反射部、干涉仪和棱镜，所述第一光栅和所述第二光栅为中阶梯光栅，所述干涉仪用于向第一光栅和第二光栅射出光线并且检测反射回的光线，其中，射出的光线经由第一反射部和第二反射部以及所述第一光栅和所述第二光栅被反射，所述棱镜设置在所述干涉仪与所述第一光栅之间，用于使部分光线发生偏折，

所述光栅拼接校正方法包括：

调节第一反射部和第二反射部中的一者或两者，使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的第一干涉场和第二干涉场；

调节所述第二光栅，使得所述第一干涉场和所述第二干涉场的干涉条纹一致；

所述调节所述第二光栅，包括：

控制所述光栅安装部基于所述第二光栅的矢量方向旋转，使得调节所述第二光栅的第一干涉场和所述第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的宽窄相一致；

控制所述光栅安装部基于所述第二光栅的法线方向旋转，使得调节所述第一光栅的第一干涉场和所述第二光栅的第一干涉场的干涉条纹的宽窄与第一光栅的第二干涉场和所述第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的宽窄相一致；

控制所述光栅安装部基于所述第二光栅的栅线方向旋转，使得调节所述第一光栅的第一干涉场和所述第二光栅的第一干涉场的干涉条纹的平行度与第一光栅的第二干涉场和所述第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的平行度相一致；

控制所述光栅安装部基于所述第二光栅的矢量方向平移所述第二光栅，使得调节所述第一光栅的第一干涉场和所述第二光栅的第一干涉场的干涉条纹的错位与第一光栅的第二干涉场和所述第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的错位相一致；

控制所述光栅安装部基于所述第二光栅的法线方向平移所述第二光栅，使得调节所述第二光栅的第一干涉场和所述第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的错位相一致。

2.一种光栅拼接校正装置，其特征在于，应用于光栅拼接校正系统，所述光栅拼接校正系统包括第一光栅、第二光栅、第一反射部、第二反射部、干涉仪和棱镜，所述第一光栅和所述第二光栅为中阶梯光栅，所述干涉仪用于向第一光栅和第二光栅射出光线并且检测反射回的光线，其中，射出的光线经由第一反射部和第二反射部以及所述第一光栅和所述第二光栅被反射，所述棱镜设置在所述干涉仪与所述第一光栅之间，用于使部分光线发生偏折，

所述校正装置包括：

光栅安装部，所述第二光栅固定在所述光栅安装部上；

反射部安装部，所述第一反射部和所述第二反射部安装在所述反射部安装部上；

反射部控制机构，通过调节所述反射部安装部调节第一反射部和第二反射部中的一者或两者，使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的第一干涉场和第二干涉场；

光栅控制机构，通过调节所述光栅安装部调节所述第二光栅，使得所述第一干涉场和所述第二干涉场的干涉条纹一致。

3.一种光栅拼接校正系统，其特征在于，包括：第一光栅、第二光栅、第一反射部、第二反射部、干涉仪以及如权利要求2所述的校正装置。