[发明专利]薄膜晶体管的图案制作方法、薄膜晶体管以及光罩有效

专利信息
申请号: 201911354912.8 申请日: 2019-12-25
公开(公告)号: CN111128878B 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 钟舒婷;张宁 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/12;G02F1/1362;G02F1/1368;G03F1/00;G03F7/20
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 杨艇要
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 薄膜晶体管 图案 制作方法 以及
【说明书】:

薄膜晶体管的图案制作方法、薄膜晶体管以及光罩。本申请公开一种TFT的图案制作方法以及光罩,用于使光通过位于TFT上方的光罩上设置的与TFT位置对应的孔,在TFT上产生两种及以上光阻叠加,抵消半导体AS层上的反射光,保证TFT正常工作。本申请实施例方法包括:TFT接收喷涂装置涂布第一光阻;TFT通过第一类型的光罩接收第一次曝光;TFT进行第一次显影形成第一图案;TFT接收喷涂装置在第一图案上涂布第二光阻;TFT通过第二类型的光罩接收第二次曝光;TFT进行第二次显影形成第二图案;TFT接收喷涂装置在第二图案上涂布第三光阻;TFT通过第三类型的光罩接收第三次曝光;TFT进行第三次显影形成目标图案,其中在三种类型的其中两个类型中,在两列像素的遮光层上,至少有一列像素的遮光层上开设有孔。

技术领域

本申请涉及液晶显示技术领域,具体涉及一种薄膜晶体管的图案的制作方法、薄膜晶体管以及光罩。

背景技术

光罩由石英玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已制作好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光罩。光罩的生产加工工序为:曝光,显影,去感光胶,最后应用于光蚀刻。而其中,薄膜晶体管(Thin film transistor,TFT)为薄膜晶体管液晶显示器(Thin film transistor liquid crystal display,TFT-LCD)的阵列基板上的TFT区域。TFT-LCD的面板可视为两片玻璃基板中间夹着一层液晶,上层的玻璃基板是彩色滤光片,而下层的玻璃则有晶体管镶嵌在玻璃上。上层玻璃因与彩色滤光片贴合,形成每个像素各包含红蓝绿三颜色的子像素,这些发出红蓝绿色彩的像素便构成了面板上的视频画面。

目前已知的TFT的图案制作方法中,在TFT上方覆盖有光罩,该光罩通常由覆盖在至少两组像素色块上的子光罩组成,每组像素色块由红(R)、绿(G)、蓝(B)色各一列子像素组合而成,并且,光罩由3N个相邻的不同时点接收曝光装置曝光时对应的三种类型构成,其中,N≥1,该方法包括如下步骤:

S1:TFT接收喷涂装置涂布第一光阻;

S2:TFT通过第一类型的光罩接收曝光装置的第一次曝光,该第一类型为在像素色块中,第一列子像素上方无遮光层,第二列子像素和第三列子像素上方均有遮光层;

S3:TFT进行第一次显影,形成第一图案;

S4:TFT接收喷涂装置在第一图案上涂布第二光阻;

S5:TFT通过第二类型的光罩接收曝光装置的第二次曝光,该第二类型为第二列子像素上方无遮光层,第一列子像素和第二列子像素上方均有遮光层;

S6:TFT进行第二次显影,形成第二图案;

S7:TFT接收喷涂装置在第二图案上涂布第三光阻;

S8:TFT通过第三类型的光罩接收曝光装置的第三次曝光,该第三类型为第三列子像素上方无遮光层,第一列子像素和第二列子像素上方均有遮光层;

S9:TFT进行第三次显影,形成目标图案。

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