[发明专利]一种RHPD-12T抗辐照SRAM存储单元电路在审

专利信息
申请号: 201911355521.8 申请日: 2019-12-25
公开(公告)号: CN111128271A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 赵强;彭春雨;卢文娟;吴秀龙;蔺智挺;陈军宁 申请(专利权)人: 安徽大学
主分类号: G11C11/412 分类号: G11C11/412;G11C11/419;G11C11/418
代理公司: 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 代理人: 郑立明;陈亮
地址: 230601 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 rhpd 12 辐照 sram 存储 单元 电路
【权利要求书】:

1.一种RHPD-12T抗辐照SRAM存储单元电路,其特征在于,所述电路包括十个NMOS晶体管和两个PMOS晶体管,十个NMOS晶体管依次记为N1~N10,两个PMOS晶体管依次记为P1~P2,其中:

内围节点由PMOS晶体管P1和P2交叉耦合,NMOS晶体管N3和N4作为下拉管;

外围节点由NMOS晶体管N5和N6交叉耦合,NMOS晶体管N1与N2作为上拉管;

外围存储节点S0和S1通过控制NMOS晶体管N3和N4对内围存储节点Q和QB进行加固;

外围存储节点S0和S1分别由NMOS晶体管N2、N6及N1、N5包围,将该结构称为极性加固结构;

内外围的四个存储节点Q、QB、S0、S1通过四个NMOS晶体管N7~N10连接到两条位线BL和BLN,四个NMOS晶体管N7~N10的开启由字线WL控制,其中:

所述四个NMOS晶体管N7~N10为四个传输晶体管,所述电路使用该四个传输晶体管进行读写,在写入数据的过程中,两条位线BL和BLN通过四个传输晶体管同时向内外围的四个存储节点Q、QB、S0、S1写入数据,使得存储节点更容易被写入数据。

2.根据权利要求1所述RHPD-12T抗辐照SRAM存储单元电路,其特征在于,在所述电路中,四个传输晶体管的连接关系具体为:

位线BL与NMOS晶体管N10与N8的源极电连接,位线BLN与NMOS晶体管N7与N9的源极电连接;

字线WL与NMOS晶体管N7~N10的栅极电连接;

NMOS晶体管N10的漏极与PMOS晶体管P2的漏极电连接,NMOS晶体管N9的漏极与PMOS晶体管P1的漏极电连接。

3.根据权利要求1所述RHPD-12T抗辐照SRAM存储单元电路,其特征在于,在所述电路中:

PMOS晶体管P1的漏极与NMOS晶体管N3的漏极电连接,并且PMOS晶体管P1的栅极与NMOS晶体管N4的漏极电连接;

PMOS晶体管P2的漏极与NMOS晶体管N4的漏极电连接,并且PMOS晶体管P2的栅极与NMOS晶体管N3的漏极电连接;

NMOS晶体管N1的漏极与NMOS晶体管N5的漏极电连接,并且NMOS晶体管N1的栅极与NMOS晶体管N4的漏极电连接;

NMOS晶体管N2的漏极与NMOS晶体管N6的漏极电连接,并且NMOS晶体管N2的栅极与NMOS晶体管N3的漏极电连接;

NMOS晶体管N3的漏极与PMOS晶体管P1的漏极电连接,并且NMOS晶体管N3的栅极与NMOS晶体管N1的漏极电连接;

NMOS晶体管N4的漏极与PMOS晶体管P2的漏极电连接,并且NMOS晶体管N4的栅极与NMOS晶体管N2的漏极电连接;

NMOS晶体管N5的漏极与NMOS晶体管N1的漏极电连接,并且NMOS晶体管N5的栅极与NMOS晶体管N6的漏极电连接;

NMOS晶体管N6的漏极与NMOS晶体管N2的漏极电连接,并且NMOS晶体管N6的栅极与NMOS晶体管N5的漏极电连接;

电源VDD与PMOS晶体管P1、P2,NMOS晶体管N1、N2的源极电连接;

NMOS晶体管N3、N4、N5、N6的源极接地。

4.根据权利要求1所述RHPD-12T抗辐照SRAM存储单元电路,其特征在于,

所述电路在保持阶段时,位线BL和BLN都预充到高电平,字线WL为低电平,所述电路内部保持初始状态,电路不工作;

所述电路在读数据阶段时,位线BL和BLN都预充到高电平,字线WL为高电平,PMOS晶体管N7~N10打开;如果单元电路存储的数据为‘0’,那么位线BLN通过PMOS晶体管N4和N5向地放电,使得位线产生电压差,然后通过灵敏放大器读出数据;如果单元电路存储的数据为‘1’,那么位线BL通过PMOS晶体管N3和N6向地放电,使得位线产生电压差,然后通过灵敏放大器读出数据;

所述电路在写入数据阶段时,字线WL为高电平,如果位线BL为高电平,位线BLN为低电平,那么通过PMOS晶体管N10和N8分别向存储节点Q和S1写‘1’;如果位线BL为低电平,位线BLN为高电平,那么通过PMOS晶体管N10和N8分别向存储节点Q和S1写‘0’。

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