[发明专利]一种设备壳体的制备方法及设备壳体

权利要求书

1.一种设备壳体的制备方法，其特征在于，包括：

制备壳本体，所述壳本体的第一表面为第一金属表面；

在所述第一金属表面的特定区域内设置铣刀槽；

至少对所述第一金属表面阳极化处理；

将铣刀置于所述铣刀槽内调整铣削深度，并以调整后的铣削深度铣削所述特定区域内的阳极层；

在去除所述阳极层的特定区域上布设皮质层。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述调整铣削深度包括：

将铣削深度调整至与所述铣刀槽的深度相同。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，还包括：

利用镭雕法去除所述铣刀槽处的阳极层。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：

在所述壳本体的第一金属表面处制备安装槽，所述安装槽所在区域形成所述特定区域；

所述铣刀槽开设在所述安装槽内。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述在所述壳本体的第一金属表面处制备安装槽包括：

在所述壳本体的第一金属表面处铣出安装槽，其中，所述安装槽的深度小于所述皮质层的厚度。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述安装槽铣削所述阳极层后的深度与所述皮质层的厚度相同。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在去除阳极层的特定区域内布设皮质层包括：

在去除阳极层的所述特定区域内布设胶粘层；

在所述胶粘层上布设所述皮质层。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一金属表面由铝合金或钛合金形成。

9.一种设备壳体，其特征在于，包括：

壳本体，其至少包括第一金属表面，所述第一金属表面具有安装槽，所述安装槽形成特定区域；

阳极层，其形成于所述特定区域以外的第一金属表面上；以及

皮质层，其布设于所述特定区域内。

10.根据权利要求9所述的设备壳体，其特征在于，所述第一金属表面为铝合金或钛合金制成。