[发明专利]一种分布参数的吸透一体超材料结构在审
| 申请号： | 201911360001.6 | 申请日： | 2019-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN110957583A | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 张岭;陈志勇 | 申请（专利权）人： | 武汉灵动时代智能技术股份有限公司 |
| 主分类号： | H01Q15/00 | 分类号： | H01Q15/00;H01Q17/00 |
| 代理公司： | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人： | 邓佳 |
| 地址： | 434000 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 分布 参数 一体 材料 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种分布参数的吸透一体超材料结构，其特征在于，包括超材料透射结构和周期性超材料结构，所述超材料透射结构与所述周期性超材料结构间隔平行相对设置；所述超材料透射结构包括金属板，所述金属板上设有环形孔；所述周期性超材料结构包括基板，所述基板的中心印刷有面电阻。
2.如权利要求1所述的一种分布参数的吸透一体超材料结构，其特征在于，所述面电阻在所述金属板上的投影面积小于所述环形孔内的面积。
3.如权利要求2所述的一种分布参数的吸透一体超材料结构，其特征在于，所述基板的面积大于所述面电阻的面积。
4.如权利要求1所述的一种分布参数的吸透一体超材料结构，其特征在于，所述面电阻的形状与所述环形孔的形状相同。
5.如权利要求1所述的一种分布参数的吸透一体超材料结构，其特征在于，所述面电阻为150Ω/sq的材料。
6.如权利要求1所述的一种分布参数的吸透一体超材料结构，其特征在于，所述环形孔的宽度为0.1mm。
7.如权利要求1所述的一种分布参数的吸透一体超材料结构，其特征在于，所述超材料透射结构与所述周期性超材料结构之间的间距为10mm。
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