[发明专利]一种ECNU-25分子筛及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种ECNU-25分子筛，其特征在于该分子筛为“第一氧化物·第二氧化物”或“第一氧化物•第二氧化物•第三氧化物”所示的化学组成，且具有下表1所示合成态存在的X-射线衍射的结构数据和表2所示焙烧态存在的X-射线衍射的结构数据：

表1

(a)]]>	d-间距(Å)	相对强度(%)
9.393	9.4076	vs
12.779	6.9218	w
13.8	6.4117	w
15.883	5.5753	w
17.517	5.0587	w
18.85	4.7038	w
20.437	4.342	s
21.742	4.0842	w
22.226	3.9963	w
22.839	3.8905	m
24.59	3.6172	m
25.72	3.4609	w
27.437	3.2481	w
27.805	3.2059	w
28.439	3.1359	w
28.439	3.1359	w
29.301	3.0456	w
30.352	2.9424	w
30.373	2.9404	s
30.709	2.909	m
31.289	2.8564	w
32.081	2.7876	w
33.053	2.7079	w
33.072	2.7064	w
34.246	2.6162	w
34.661	2.5858	w
35.46	2.5294	w
35.57	2.5218	w
35.881	2.5007	w
37.838	2.3757	w
37.959	2.3684	w
38.236	2.3519	w
38.716	2.3238	w
38.716	2.3238	w
39.005	2.3073	w
39.377	2.2864	w
40.194	2.2417	w
40.21	2.2409	w
40.474	2.2269	w
41.563	2.171	w
42.25	2.1372	w
42.25	2.1372	w
42.33	2.1334	w
42.345	2.1327	w
42.361	2.1319	w
43.053	2.0992	w
43.659	2.0715	w
44.32	2.0421	w
44.397	2.0388	w
44.412	2.0381	w
44.67	2.0269	w
45.349	1.9982	w
46.39	1.9557	w
46.419	1.9546	w
46.654	1.9452	w
47.311	1.9198	w
47.63	1.9077	w
48.334	1.8815	w
48.548	1.8737	w
48.576	1.8727	w
48.973	1.8584	w
48.973	1.8584	w

表2

(a)]]>	d-间距(Å)	相对强度(%)
9.426	9.374	vs
12.842	6.887	w
14.065	6.291	w
16.116	5.495	w
17.984	4.928	w
18.85	4.704	w
20.813	4.264	s
22.351	3.974	w
22.661	3.92	w
23.347	3.807	m
25.389	3.505	m
26.237	3.394	w
28.037	3.181	w
28.678	3.11	w
30.027	2.973	w
31.079	2.875	w
31.447	2.842	w
31.676	2.822	w
32.159	2.781	w
32.899	2.72	w
34.208	2.619	w
35.088	2.555	w
35.599	2.52	w
36.765	2.442	w
39.401	2.319	w
40.453	2.228	w
42.699	2.116	w
43.779	2.066	w
44.319	2.042	w
47.730	1.904	w

其中：(a)为± 0.30°；衍射峰强度w为小于20，m为20～40，s为40～70，vs为大于70；

所述第一氧化物为二氧化硅；所述第二氧化物为氧化硼；第三氧化物为氧化铝、氧化钛、氧化锡、氧化铁、氧化镓、稀土氧化物、氧化铟和氧化钒中的一种或两种以上的混合；所述第一氧化物与第二氧化物摩尔比以氧化物计为0.5~30，第一氧化物与第三氧化物的摩尔比以氧化物计为10。