[发明专利]一种用于空间聚合物材料的防原子氧薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201911363959.0 | 申请日： | 2019-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN111116962B | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 许旻;张晓宇;李中华;王志民;赵琳;李林 | 申请（专利权）人： | 兰州空间技术物理研究所 |
| 主分类号： | C08J7/06 | 分类号： | C08J7/06;C23C16/50;C08L79/08 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 周蜜;仇蕾安 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 空间 聚合物 材料 防原子 薄膜 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于空间聚合物材料的防原子氧薄膜的制备方法，其特征在于：所述方法步骤如下，
基底以30mm/min～50mm/min的走带速度通过镀膜真空腔室过程中，镀膜真空腔室中六甲基二硅氧烷单体气体和氧气的混合气体经过电离后沉积在基底上，沉积功率为400W～500W，在基底上形成防原子氧薄膜；
其中，混合气体中，六甲基二硅氧烷单体气体的流速为20sccm～30sccm，氧气的流速为40sccm～50sccm；混合气体的浓度在基底的运动方向上呈正态分布；镀膜真空腔室的真空度不小于4×10-3Pa，沉积的工作压力不大于10Pa。
2.根据权利要求1所述的一种用于空间聚合物材料的防原子氧薄膜的制备方法，其特征在于：基底为聚酰亚胺、聚四氟乙烯或聚亚安酯。
3.根据权利要求1所述的一种用于空间聚合物材料的防原子氧薄膜的制备方法，其特征在于：基底上防原子氧薄膜的厚度为200nm～400nm。
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