[发明专利]电路板表面残胶的清洗方法

权利要求书

1.一种电路板表面残胶的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)用去离子水对待清洗的电路板进行清洗；

(2)用含碱溶液对步骤(1)清洗后的电路板进行喷淋清洗；

(3)用去离子水对步骤(2)清洗后的电路板进行清洗；

(4)用含酸溶液对步骤(3)清洗后的电路板进行清洗；

(5)用去离子水对步骤(4)清洗后的电路板进行清洗，干燥，结束清洗。

2.如权利要求1所述电路板表面残胶的清洗方法，其特征在于，所述含碱溶液的制备方法为：将20～30kg NaOH和4～6L的碱性消泡剂加入400～600L的去离子水中，混合均匀，即得所述含碱溶液。

3.如权利要求1所述电路板表面残胶的清洗方法，其特征在于，所述含酸溶液为质量百分比浓度为2～4％的柠檬酸溶液。

4.如权利要求1所述电路板表面残胶的清洗方法，其特征在于，步骤(1)中，所述清洗为超声波清洗，超声波频率为100～150kHz，时间为8～10min，去离子水的温度为35～40℃。

5.如权利要求1所述电路板表面残胶的清洗方法，其特征在于，步骤(2)中，所述含碱溶液的温度为10～20℃，所述喷淋清洗的时间为8～12min。

6.如权利要求1所述电路板表面残胶的清洗方法，其特征在于，步骤(3)中，所述清洗为超声波清洗，超声波频率为100～150kHz，时间为15～25min，去离子水的温度为35～40℃。

7.如权利要求1所述电路板表面残胶的清洗方法，其特征在于，步骤(4)中，所述清洗为超声波清洗，超声波频率为100～150kHz，时间为8～10min，含酸溶液的温度为10～20℃。

8.如权利要求1所述电路板表面残胶的清洗方法，其特征在于，步骤(5)中，所述清洗为多次水洗，水洗至电路板表面的pH为7。

9.如权利要求1所述电路板表面残胶的清洗方法，其特征在于，步骤(6)中，所述干燥的温度为70～80℃。