[发明专利]氧缺陷二氧化钛催化剂及其制备方法和应用

权利要求书

1.氧缺陷二氧化钛催化剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

a、将二氧化钛均匀分散于等离子体反应器中，并通入工作气体对反应器进行排空处理；所述等离子体反应器为DBD介质阻挡放电冷等离子体发生器；

b、保持工作气体的持续通入，在等离子体反应器的电压为80～140V、电流为1.35～1.93A的条件下，处理20～50min，得到氧缺陷纳米二氧化钛催化剂；

其中，所述工作气体由H₂和N₂组成。

2.根据权利要求1所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的制备方法，其特征在于，步骤a中，所述二氧化钛为纳米二氧化钛。

3.根据权利要求2所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的制备方法，其特征在于，二氧化钛为P25型纳米二氧化钛。

4.根据权利要求1所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的制备方法，其特征在于，步骤a和b中：工作气体的流量为40～100mL/min。

5.根据权利要求4所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的制备方法，其特征在于，步骤a和b中：工作气体的流量为80-100mL/min。

6.根据权利要求4所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的制备方法，其特征在于，步骤a和b中：工作气体的流量为80mL/min。

7.根据权利要求1-3任一项所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的制备方法，其特征在于，所述工作气体由H₂与N₂按体积百分比为1%～60%:99%～40%组成。

8.根据权利要求7所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的制备方法，其特征在于，所述工作气体由H₂与N₂按体积百分比为1%～40%:99%～60%组成。

9.根据权利要求7所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的制备方法，其特征在于，所述工作气体由H₂与N₂按体积百分比为5%～10%:95%～90%组成。

10.根据权利要求7所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的制备方法，其特征在于，所述工作气体由H₂与N₂按体积百分比为10%:90%组成。

11.根据权利要求1-4任一项所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的制备方法，其特征在于，步骤b中：电压为100～140V，电流为1.58～1.93A。

12.根据权利要求11所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的制备方法，其特征在于，步骤b中：电压为100V，电流为1.58A。

13.根据权利要求1所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的制备方法，其特征在于，步骤a中,采用的工作气体与步骤b中采用的工作气体的组成和流量均相同。

14.根据权利要求1所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的制备方法，其特征在于，步骤b中，处理时间为20～30min。

15.根据权利要求14所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的制备方法，其特征在于，步骤b中，处理时间为30min。

16.氧缺陷二氧化钛催化剂，其特征在于，采用权利要求1-15任一项所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的制备方法制备而成。

17.权利要求16所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的应用，其特征在于，所述氧缺陷二氧化钛催化剂用于降解有机污染物。

18.根据权利要求17所述的氧缺陷二氧化钛催化剂的应用，其特征在于，所述有机污染物为亚甲基蓝。