[发明专利]掩膜板、拼接曝光方法及基板

说明书

本发明涉及一种掩膜板、拼接曝光方法及基板，包括：第一掩膜板，具有第一遮光区，第一遮光区包括在第一方向上相互连接的第一非拼接段及第一拼接段；第二掩膜板，具有第二遮光区，第二遮光区包括在第一方向上相互连接的第二非拼接段及第二拼接段；第一非拼接段与第二非拼接段在第二方向上的线宽相等，第一非拼接段在待曝光膜层所在平面形成的在先投影和第二非拼接段在待曝光膜层所在平面形成的在后投影在第二方向上错位；第一拼接段与第二拼接段至少一者的线宽大于第一非拼接段的线宽；第一方向和第二方向彼此垂直且平行于掩膜板。使在光刻胶层上形成的虚拟图案在各处的线宽相等，保证了最终形成的金属图案的线宽相等。

技术领域

本发明涉及掩膜曝光技术领域，特别是涉及一种掩膜板、拼接曝光方法及基板。

背景技术

随着显示技术的不断发展，显示屏的尺寸在不断增大，为了增大显示屏的尺寸，掩膜板的尺寸也需要随之增大。但是由于曝光机对掩膜板尺寸的限制，以及大尺寸的掩膜板存在制造困难、成本高及存放不便等诸多问题，制造大尺寸的掩膜板受到限制。

为了生产出较大尺寸的显示屏，常常采用尺寸较小的掩膜板进行掩膜曝光，但是尺寸较小的掩膜板的有效曝光区的面积小于显示屏的面积，因此必须采用拼接曝光方式制备较大尺寸的显示屏。

但是采用上述拼接曝光方式制备较大尺寸的显示屏时，常常会在显示屏拼接区域出现显示亮度不均或分屏显示的现象。

发明内容

基于此，有必要针对拼接区域出现显示亮度不均或分屏显示的现象的问题，提供一种改善上述问题的掩膜板、拼接曝光方法及基板。

根据本申请的一个方面，提供一种掩膜板，包括：

第一掩膜板，具有第一遮光区，所述第一遮光区包括在第一方向上相互连接的第一非拼接段及第一拼接段；

第二掩膜板，具有第二遮光区，所述第二遮光区包括在第一方向上相互连接的第二非拼接段及第二拼接段；

所述第一非拼接段与所述第二非拼接段在第二方向上的线宽相等，且所述第一非拼接段在待曝光膜层所在平面形成的在先投影和所述第二非拼接段在所述待曝光膜层所在平面形成的在后投影在所述第二方向上错位；

所述第一拼接段与所述第二拼接段中至少一者的线宽大于所述第一非拼接段的线宽；所述第一方向和所述第二方向彼此垂直且平行于所述掩膜板。

上述的掩膜板，由于第二拼接段与第一拼接段至少一者的线宽大于第一非拼接段的线宽，如此可以补偿错位导致的线宽差，可以使在待曝光膜层上形成的虚拟图案在各处的线宽相等，而最终成型的金属图案依照上述虚拟图案经过显影及刻蚀后形成，则保证了最终形成的金属图案的线宽趋于一致，从而保证了显示屏拼接区域的显示亮度均匀及解决显示屏的分屏显示的问题。

在一实施例中，所述第一掩膜板与所述第二掩膜板一体成型；

所述第一掩膜板和所述第二掩膜板均具有彼此相对的第一端和第二端，所述第一掩膜板的第二端与所述第二掩膜板的第二端连接；

其中，所述第一掩膜板的第二端为所述第一非拼接段远离所述第一拼接段的一端指向的一端；

所述第二掩膜板的第二端为所述第二非拼接段远离所述第二拼接段的一端指向的一端；

或者，所述第一掩膜板与所述第二掩膜板分体设置。

在一实施例中，所述第一拼接段与所述第二拼接段的线宽均大于所述第一非拼接段的线宽。

在一实施例中，所述第二拼接段的线宽与所述第一拼接段各处的线宽均相等；或者