[发明专利]一种光谱选择性辐射红外隐身材料及其制备方法

权利要求书

1.一种光谱选择性辐射红外隐身材料，其特征在于，所述红外隐身材料为层状结构，依次包括基底、氮化铝层和介质层；所述介质层由若干交替排列的介质层A和介质层B组成；所述介质层A的材料为锗、碲、硅中的任一种，所述介质层B的材料为硫化锌、硒化锌、氟化镁、氟化钡、氟化钙中的任一种；所述红外隐身材料的层数为4～7层；所述氮化铝层在11～14μm波段反射率大于80％，在5～8μm波段发射率大于80％；所述介质层A和介质层B在3～14μm波段的透过率大于50％，在3～14μm波段的发射率低于5％。

2.如权利要求1所述的红外隐身材料，其特征在于，所述氮化铝层厚度大于0.5mm，所述介质层A和介质层B的厚度分别为100～1000nm。

3.如权利要求1所述的红外隐身材料，其特征在于，所述基底的材料为硅、玻璃、金属、高分子材料中的任一种。

4.如权利要求1所述的红外隐身材料，其特征在于，所述氮化铝层与介质层A接触。

5.一种如权利要求1～4任一项所述的红外隐身材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)对基底进行清洗并干燥；

(2)采用磁控溅射或流延法，在基底表面制备一层氮化铝层；

(3)采用磁控溅射或电子束蒸发，在氮化铝层先沉积一层介质层A，再沉积一层介质层B，重复交替沉积介质层A和介质层B，直至设计的层数，完成红外隐身材料的制备。

6.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述清洗是指先使用去离子水清洗，再浸泡在无水乙醇中超声清洗。