[发明专利]一种中心供液抛光轮机构及抛光机设备

说明书

本发明公开了一种中心供液抛光轮机构及抛光机设备，所述中心供液抛光轮机构包括缸体和设置在所述缸体内的抛光轮体，所述抛光轮体的中部设置有旋转主轴，所述旋转主轴内设置有可相对所述旋转主轴伸缩的活塞杆，所述活塞杆的底部设置有一出液孔，所述活塞杆的一侧设置有偏心孔，所述偏心孔与所述出液孔连通。本发明提供的一种中心供液抛光轮机构及抛光机设备，抛光液采用中心供液的供液方式，能够使抛光液均匀准确地的布满整个磨头的抛光面，并且能够并避免抛光液到处飞溅的影响，从而达到更好的抛光效果，并且采用橡胶防护套可以将抛光液进行密封，从而更好地使抛光液完全进入旋转主轴从而均匀喷洒。

技术领域

本发明涉及抛光轮的机构及设备技术领域，具体涉及的是一种中心供液抛光轮机构及抛光机设备。

背景技术

抛光机也称为研磨机，常常用作机械式研磨、抛光及打蜡，抛光机在抛光过程中，所述抛光轮由电机驱动旋转，旋转的抛光轮对工件的表面进行抛光。其工作原理是：电动机带动安装在抛光机上的抛光盘高速旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可以达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。

一般的，抛光盘的转速一般在1500-3000r/mi n，多为无级变速，施工时可根据需要随时调整；目前平板类零部件的表面抛光处理一般不能自身供液，通常采用外部供液，而采用外部供液则会导致抛光轮机构在抛光时抛光液分布不均匀，或者抛光液喷射不到抛光的位置，又或者会使得抛光液到处飞溅，从而影响抛光的效果以及产生不必要的工作量。

因此，现有技术还有待提高。

发明内容

鉴于上述现有技术的不足之处，本发明的目的在于提供一种能够自身提供抛光液且均匀喷射的中心供液抛光轮机构及抛光机设备。

为解决以上技术问题，本发明采取了以下技术方案：

一种中心供液抛光轮机构，所述中心供液抛光轮机构包括缸体和设置在所述缸体内的抛光轮体，所述抛光轮体的中部设置有旋转主轴，所述旋转主轴内设置有可相对所述旋转主轴伸缩的活塞杆，所述活塞杆的底部设置有一出液孔，所述活塞杆的一侧设置有偏心孔，所述偏心孔与所述出液孔连通。

所述的中心供液抛光轮机构中，其中，所述缸体包括端盖、轴承座以及轴承压盖，所述端盖上设置有用于向所述活塞杆内供液的供液孔。

所述的中心供液抛光轮机构中，其中，所述活塞杆上还设置有保护套和导向铜套，所述导向铜套套设在活塞杆上，所述保护套呈圆台状，其底面直径较大一端连接在旋转主轴上，其底面直径较小一端连接在活塞杆上。

所述的中心供液抛光轮机构中，其中，所述保护套与所述旋转主轴的连接处以及所述保护套与活塞杆的连接处还设置有密封圈和挡圈，所述密封圈有两个，分别套设在所述旋转主轴上和所述活塞杆上，所述挡圈套设在所述导向铜套上。

所述的中心供液抛光轮机构中，其中，所述活塞杆上还套设有圆柱键，所述圆柱键镶嵌于所述旋转主轴内，与所述旋转主轴配合固定。

所述的中心供液抛光轮机构中，其中，所述旋转主轴的上端设置有螺旋伞齿，所述螺旋伞齿通过平键与所述旋转主轴固定，并通过螺母与所述旋转主轴连接。

所述的中心供液抛光轮机构中，其中，所述旋转主轴上套设有轴承,所述轴承设置有3个，所述轴承为深沟球轴承或交叉滚轴轴承。

所述的中心供液抛光轮机构中，其中，所述轴承的外侧通过套设的轴承座和轴承压盖限位固定。

所述的中心供液抛光轮机构中，其中，所述轴承座的两端通过螺钉分别与所述轴承压盖和端盖固定连接。

一种抛光机设备，包括抛光机设备本体，所述抛光机设备本体上设置有如上述所述的中心供液抛光轮机构。