[发明专利]高分子氢键复合物的界面组装柔性耐溶剂光学扩散膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911368505.2 申请日: 2019-12-26
公开(公告)号: CN111019176B 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 杨曙光;林峰;张彩虹;朱丽萍;韦莉 申请(专利权)人: 东华大学
主分类号: C08J7/04 分类号: C08J7/04;C08J7/12;C09D139/00;C09D133/02;C09D101/28;C09D139/06;C09D171/02;C09D129/04;C08L67/02
代理公司: 上海统摄知识产权代理事务所(普通合伙) 31303 代理人: 贾春林
地址: 201620 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 高分子 氢键 复合物 界面 组装 柔性 溶剂 光学 扩散 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.高分子氢键复合物的界面组装柔性耐溶剂光学扩散膜的制备方法,其特征是:对基膜进行预处理在基膜表面上引入氢键供体后依次交替沉积带羟基的氢键受体和带羧基的氢键供体粒子,或者对基膜进行预处理在基膜表面上引入氢键受体后依次交替沉积带羧基的氢键供体粒子和带羟基的氢键受体,所述带羧基的氢键供体粒子是由过量的带羧基的氢键供体与氢键受体通过氢键作用结合而成的表面附着带羧基的氢键供体粒子,基膜表面的带氢键供体粒子随着交替次数的增加而沉积,然后进行热交联,由于氢键受体带有羟基和氢键供体粒子带羧基,故能够相互交联形成酯键,制得柔性光学扩散膜。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,具体步骤为:

(1)对基膜进行预处理在基膜表面上引入带羧基的氢键供体;

(2)将基膜浸入带羟基的氢键受体溶液5~10min后对基膜进行洗脱;

(3)将洗脱后的基膜浸入带羧基的氢键供体粒子悬浊液5~10min后对基膜进行洗脱;

(4)依次交替重复步骤(2)和(3)5~20次;

(5)上述步骤(4)后进行120~160℃下热交联30min~2h过程;

(6)依次交替重复步骤(4)和(5)3~16次,制得光学扩散膜;

或者,

(a)对基膜进行预处理在基膜表面上引入带羟基的氢键受体;

(b)将基膜浸入带羧基的氢键供体粒子悬浊液5~10min后对基膜进行洗脱;

(c)将洗脱后的基膜浸入带羟基的氢键受体溶液5~10min后对基膜进行洗脱;

(d)依次交替重复步骤(b)和(c)5~20次;

(e)上述步骤(d)后进行120~160℃下热交联30min~2h过程;

(f)依次交替重复步骤(d)和(e)3~16次,制得光学扩散膜;

所述对基膜进行洗脱是指将基膜浸入水溶液10s至1min,重复三次以上;所述带羧基的氢键供体粒子悬浊液、带羟基的氢键受体溶液及水溶液的pH相同,为pH=1~2。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述基膜为PET膜,所述预处理为:对基膜进行预处理在基膜表面上引入氢键供体时采用等离子体处理,具体为用氧等离子体处理基膜5~10分钟后,浸入1~2mg/mL的聚二烯丙基二甲基氯化铵溶液20~30分钟获得表面正电荷,再浸入1~2mg/mL的聚甲基丙烯酸溶液20~30分钟,其中聚二烯丙基二甲基氯化铵的重均分子量为100000~200000,聚甲基丙烯酸的重均分子量为6500~10000。

4.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,对基膜进行预处理在基膜表面上引入氢键受体时采用等离子体处理,具体为用氧等离子体处理基膜5~10分钟后,浸入1~2mg/mL的聚二烯丙基二甲基氯化铵溶液20~30分钟获得表面正电荷,再浸入1~2mg/mL的聚甲基丙烯酸溶液20~30分钟,最后浸入1~2mg/mL的聚乙烯醇溶液中10~20分钟,其中聚二烯丙基二甲基氯化铵的重均分子量为100000~200000,聚甲基丙烯酸的重均分子量为6500~10000,聚乙烯醇的重均分子量为6000~7000。

5.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述带羟基的氢键受体溶液为甲基纤维素溶液、羟丙基甲基纤维素溶液、羟乙基纤维素溶液或聚乙烯醇溶液;溶剂为水;所述带羟基的氢键受体溶液的浓度为0.1~0.2wt%,溶液的pH为1~2,溶液温度为10~25℃。

6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,甲基纤维素的粘度在2wt%,20g/L,25℃下的粘度为400~2000 mPa·s;羟丙基甲基纤维素的粘度在2wt%,20g/L,25℃下的粘度为400~2000 mPa·s;羟乙基纤维素的粘度在2wt%,20g/L,25℃下的粘度为5000~6400 mPa·s。

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