[发明专利]一种电离室以及控制电离室温度的方法

说明书

本发明公开了一种电离室以及控制电离室温度的方法，该电离室包括：电离室本体；供电装置，与加热装置相连接，用于向所述加热装置提供加热功率；所述加热装置，设置在所述电离室本体的外围，用于对所述电离室本体进行加热。本发明实施例的技术方案，解决了现有技术中电离室内温湿度变化剧烈时，会造成漏电流、电极薄膜等材料的性质发生变化，从而对电离室内的电离信号的精确测量产生巨大的影响，进而导致开放式电离室的剂量相应稳定性降低的技术问题，实现了动态调整电离室内的温度，使电离室内的温度维持在预设范围之内，进而提高电离室内剂量稳定性的技术效果。

技术领域

本发明实施例涉及医疗技术领域，尤其涉及一种电离室以及控制电离室温度的方法。

背景技术

在进行放射治疗时，剂量的准确性与稳定性尤其关键，对于剂量的输出特性，对监测剂量的电离室有着重要的影响。由于封闭式电离室的技术难度，大部分机器使用开放式的平板电离室对束流进行监测。

开放式电离室的剂量信号响应会受到温度、气压、与湿度等各种因素的影响，从而会剂量输出的稳定性造成一定的影响。现有技术中使用温度气压矫正因子进行相应的矫正时，温度气压变化带来的空气密度的变化对信号响应会产生影响。进一步的，电离室内温湿度变化剧烈时，会造成漏电流、电极薄膜等材料的性质发生变化，从而对电离室内的电离信号的精确测量产生巨大的影响，进而导致开放式电离室的剂量响应稳定性降低。

发明内容

本发明提供一种电离室以及控制电离室温度的方法，以实现使电离室内的温度和湿度维持在预设范围之内，从而提高电离室剂量稳定性的技术效果。

第一方面，本发明提供了一种电离室，该电离室包括：

电离室本体；

供电装置，与加热装置相连接，用于向所述加热装置提供加热功率；

所述加热装置，设置在所述电离室本体的外围，用于对所述电离室本体进行加热。

进一步的，该电离室还包括：第一温度传感器，用于获取所述加热装置的当前温度。

进一步的，所述供电装置为独立供电电源；所述独立供电电源，与控制器相连接，用于接收所述控制器发送的供电控制信号。

进一步的，所述控制器，用于接收所述当前温度，并根据所述当前温度生成与所述当前温度相对应的供电控制信号发送至所述独立供电电源，以使所述独立供电电源根据所述供电控制信号对所述加热装置进行供电。

进一步的，所述供电装置为放疗系统，与所述第一温度传感器相连接，用于接收所述当前温度，并根据所述当前温度调节对所述加热装置施加的供电功率。

进一步的，所述电离室还包括：第二温度传感器，设置在所述电离室本体的内壁上，用于检测电离室内部温度。

进一步的，所述加热装置包括加热薄层和/或至少一个加热电阻。

进一步的，所述电离室还包括：导热装置，铺设在所述电离室的外围与所述加热装置之间，用于对所述加热装置释放的热量进行热传导。

进一步的，所述电离室还包括：

至少一个对流装置，设置在所述电离室的外部，用于调节所述电离室的空气对流速度。

第二方面，本发明实施例还提供了一种控制电离室温度的方法，该方法包括：

供电装置接收供电控制信号；

基于所述控制信号对所加热装置进行供电，以使电离室的温度在预设温度范围之内。