[发明专利]一种实现超高速曝光的设备在审
申请号: | 201911372328.5 | 申请日: | 2019-12-27 |
公开(公告)号: | CN111025858A | 公开(公告)日: | 2020-04-17 |
发明(设计)人: | 陈修涛 | 申请(专利权)人: | 合肥众群光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 合肥兴东知识产权代理有限公司 34148 | 代理人: | 王伟 |
地址: | 230088 安徽省合肥市蜀*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 实现 超高速 曝光 设备 | ||
本发明涉及无掩模曝光的技术领域,尤其涉及一种实现超高速曝光的设备,该设备包括光学部,所述光学部包括DMD微镜器、N个光学镜组,N个所述光学镜组阵列设置在DMD微镜器正前方,设定DMD微镜器在每一行光刻时与待处理部件相对移动的方向为行方向,所述光学镜组的阵列方向与行方向相同,DMD微镜器经过N个光学镜组后在列方向形成N个连续条带的图像数据。本发明中使用光学镜组,使一个类似方形的DMD微镜器形成的图像数据在列方向成倍数增加,这样虽然单行光刻的时间增加,但是降低了待处理部件行方向的反复次数,并且也降低了DMD微镜器在列方向上的运动次数,从而提高了效率,并且降低了DMD微镜器的在列方向阵列的数量,从而降低了成本。
技术领域
本发明涉及无掩模曝光的技术领域,尤其涉及一种实现超高速曝光的设备。
背景技术
无掩模曝光技术,不需要制作掩膜,所以可降低成本和缩短曝光时间,是下一代平行光曝光设备的主要发展方向。
现有的无掩模光刻,主要是通过多个DMD微镜器并排设置来作为单次光刻的宽度,将并排设置的DMD微镜器与待处理部件做相对垂直运动,并且运动方向与DMD微镜器并排方向垂直,从而实现一次光刻,等光刻结束后,在以相反的方向退回到开始位置,然后将所有的DMD微镜器相对于待处理部件做相对水平移动,在另外一排中进行光刻。其中多个DMD微镜器并排设置是为了提高光刻的效率,但是由于DMD微镜器价格较高,如果降低DMD微镜器的成本时,单个DMD微镜器的宽度则为单次光刻的宽度,这样DMD微镜器移动的相对于待处理部件做相对水平运动和垂直运动的次数倍数增加,从而降低了扫描的速度,并且现有的DMD微镜器均为方形结构,为了节约成本还能尽量提高光刻的速度是急需解决的技术问题。
发明内容
为了节约成本还能尽量提高光刻的速度,本发明提供一种实现超高速曝光的设备。本发明采用以下技术方案:
一种实现超高速曝光的设备,包括光学部,所述光学部包括DMD微镜器、N个光学镜组,N个所述光学镜组阵列设置在DMD微镜器正前方,设定DMD微镜器在每一行光刻时与待处理部件相对移动的方向为行方向,所述光学镜组的阵列方向与行方向相同,DMD微镜器经过N个光学镜组后在列方向形成N个连续条带的图像数据。
优化的,所述光学镜组在列方向的长度均大于DMD微镜器在列方向上的长度。
优化的,所述光学镜组包括依次设置的第一光学镜组、第二光学镜组、第三光学镜组,所述第一光学镜组和第三光学镜组均包括两个棱镜,两个棱镜可组成平行四边形,所述第一光学镜组中两棱镜使光束向DMD微镜器所在列的右侧列折射后再直射,所述第二光学镜组使光束朝DMD微镜器所在列的正下方直射,第三光学镜组中两棱镜使光束向DMD微镜器所在列的左侧列折射后再直射。
优化的,折射产生的位移不大于DMD微镜器列方向上的宽度。
优化的,所述第一光学镜组包括斜边重合后为平行四边形的第一三角棱镜和第二三角棱镜,所述第一三角棱镜和第二三角棱镜在DMD微镜器和行运动平台之间依次设置,所述第一三角棱镜和第二三角棱镜相对的平行斜边从靠近DMD微镜器一端到另一端的方向为DMD微镜器发射出的光束折射方向;所述第二光学镜组包括平行四边形透镜;所述第三光学镜组包括斜边重合后为平行四边形的第三三角棱镜和第四三角棱镜,所述第三三角棱镜和第四三角棱镜相对的平行斜边从靠近DMD微镜器一端到另一端的方向为DMD微镜器发射出的光束折射方向。
优化的,还包括支撑座、行运动平台、列运动平台、支撑框架,所述支撑框架架设在支撑座上,所述行运动平台和列运动平台分别对应设置在支撑座和支撑框架上,所述DMD微镜器设置在列运动平台上,所述待处理部件设置在行运动平台上。
优化的,所述DMD微镜器与列运动平台之间还设置有垂直于行运动平台的竖向导轨。
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