[发明专利]一种超反射镜有效

专利信息
申请号: 201911373469.9 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN111048226B 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: 王孝东;陈波 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: G21K1/06 分类号: G21K1/06
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 曹卫良
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 反射
【说明书】:

发明提供一种超反射镜,其包括基底,所述基底为熔石英,在所述基底上交替叠加铱膜和碳化硅膜,使用铱和碳化硅两种材料组成多层膜,靠近所述基底侧的膜为碳化硅膜,最外层膜为铱膜。所述铱膜和所述碳化硅膜交替设置的结构形成若干组周期多层膜。与现有技术比较本发明的有益效果在于:本发明提供了一种超反射镜,该超反射镜在大掠入射角条件下,在0.2‑10keV波段有较高的反射率。该超反射镜具有较好的角度容忍度,降低了装调的难度。与单层膜或者两层膜相比,具有明显的优势。选用的材料为磁控溅射常用的材料,易于制备。

技术领域

本发明涉及光学薄膜技术领域,具体涉及一种超反射镜。

背景技术

在X射线波段,所有材料的折射率都接近1,折射角非常小,因此无法采用透射光学系统。正入射时,X射线波段单层膜的反射率小于10E-4,而广泛应用于极紫外和水窗波段的传统正入射多层膜,在0.3-10keV波段的膜层厚度已经是亚纳米水平,这时界面扩散和粗糙度对反射率的影响已经非常显著,反射率也非常低。因此,在X射线光学系统中,一般采用掠入射光学结构,也就是让材料工作在其全反射角附近,以获得较高的反射率。

掠入射角是X射线光学系统的关键参数。增大掠入射角,可以减小焦平面距离,进而减小了系统的尺寸和重量,降低了制造成本;提高了有效集光面积,降低了装调难度,进而促进了成像质量的提高。在较早的X射线光学系统中,镜面镀制的都是金属单层膜,即Ni、Au、Pt和Ir等金属单层膜,利用金属单层膜的全反射角来实现软X射线波段较高的反射率。金属单层膜在软X射线波段全反射角一般较小,小于0.7°。由于金属膜的全反射角和入射光子的能量成反比,金属膜在一定入射角下的反射率随入射光子能量的增大而减小。因此,随着掠入射角变大,超过了单层金属膜的全反射角,高能量波段的反射率急剧下降。人们通常采用非周期多层膜技术,来进一步提高掠入射角。该技术是利用布拉格衍射原理来实现这一目标的。

通常,把工作在X射线波段,具有比较大的响应带宽(角度或者波长)的掠入射反射非周期多层膜称作超反射镜。超反射镜是软X射线光学系统的关键光学元件,其在生物成像、等离子体诊断、天文观测等领域具有重要的应用前景。超反射镜与传统多层膜的区别有两方面:一是工作角度是掠入射角,一般小于2°;二是有些膜层厚度在1nm左右,对制备提出了更高的要求。设计方法包括膜厚渐变法、线性膜堆法、解析加优化方法和膜厚优化法,其中膜厚优化法包括局部优化法,例如Marquardt算法和Levenberg-Marquardt算法。膜厚优化法还包括全局优化算法,例如微分进化算法和Binda遗传算法。

但是现有技术中的超反射镜也存在缺陷,例如:在大掠入射角(1°,1.4°, 1.7°)条件下,在0.2-10keV波段的反射率较低;同时也较难制备。

因此,急需研究开发一种能够克服现有技术中的缺陷的新型超反射镜。

发明内容

有鉴于此,为了解决现有技术中反射率较低的问题。本发明提供一种超反射镜,包括基底,所述基底为熔石英,在所述基底上交替叠加铱膜和碳化硅膜,使用铱和碳化硅两种材料组成多层膜,靠近所述基底侧的膜为碳化硅膜,最外层膜为铱膜。所述铱膜和所述碳化硅膜交替设置的结构形成若干组周期多层膜。

较佳地,通过Kozhevnikov公式得到周期多层膜的厚度分布。

较佳地,所述Kozhevnikov公式中的目标反射率为R(λ)α,其中α为常数。

较佳地,所述Kozhevnikov公式中的目标反射率为:R(λ)exp[(4πσsin(θ)/ λ)m,其中其中α为常数,σ是粗糙度,θ是掠入射角。

较佳地,所述Kozhevnikov公式中的目标反射率为:

R(λ)exp[-(4πσsin(θ)/λ)m],其中α为常数,σ是粗糙度,θ是掠入射角。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911373469.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top