[发明专利]一种超反射镜

权利要求书

1.一种超反射镜，其特征在于，其包括基底，所述基底为熔石英，在所述基底上交替叠加钨膜和硅膜，靠近所述基底侧的膜为硅膜，最外层膜为钨膜，所述钨膜和所述硅膜交替设置的结构形成若干组周期多层膜。

2.如权利要求1中所述的超反射镜，其特征在于，所述周期多层膜的周期厚度的确定公式为：

其中，m是衍射级次，λ是波长，d是周期厚度，Γ是高密度材料在周期厚度中所占的比例，θ是掠入射角，δ_h是高密度材料折射率减小量，δ_l是低密度材料折射率减少量。

3.如权利要求1中所述的超反射镜，其特征在于，所述基底的粗糙度小于0.25nm。

4.如权利要求1中所述的超反射镜，其特征在于，掠入射角为1.0°时的所述超反射镜共有6组周期多层膜，6组所述周期多层膜分别对应能量为5keV、6keV、7keV、8keV、9keV和10keV的电磁波。

5.如权利要求4中所述的超反射镜，其特征在于，与能量为5keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为9.73nm，其中的周期数为1；

与能量为6keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为7.20nm，其中的周期数为2；

与能量为7keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为5.81nm，其中的周期数为3；

与能量为8keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为4.90nm，其中的周期数为4；

与能量为9keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为4.26nm，其中的周期数为6；

与能量为10keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为3.76nm，其中的周期数为9。

6.如权利要求1中所述的超反射镜，其特征在于，掠入射角为1.4°时的所述超反射镜共有7组周期多层膜，7组所述周期多层膜分别对应能量为4keV、5keV、6keV、7keV、8keV、9keV和10keV的电磁波。

7.如权利要求6中所述的超反射镜，其特征在于，与能量为4keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为7.99nm，其中的周期数为1；

与能量为5keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为5.82nm，其中的周期数为2；

与能量为6keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为4.63nm，其中的周期数为3；

与能量为7keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为3.87nm，其中的周期数为5；

与能量为8keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为3.33nm，其中的周期数为7；

与能量为9keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为2.93nm，其中的周期数为10；

与能量为10keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为2.61nm，其中的周期数为15。

8.如权利要求1中所述的超反射镜，其特征在于，掠入射角为1.7°时的所述超反射镜共有7组周期多层膜，7组所述周期多层膜分别对应能量为4keV、5keV、6keV、7keV、8keV、9keV和10keV的电磁波。

9.如权利要求6中所述的超反射镜，其特征在于，与能量为4keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为6.04nm，其中的周期数为1；与能量为5keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为4.57nm，其中的周期数为2；

与能量为6keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为3.70nm，其中的周期数为4；

与能量为7keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为3.12nm，其中的周期数为6；

与能量为8keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为2.70nm，其中的周期数为9；

与能量为9keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为2.38nm，其中的周期数为14；

与能量为10keV的电磁波所对应的所述周期多层膜的周期厚度为2.13nm，其中的周期数为22。