[发明专利]X光光栅及其制备方法

权利要求书

1.一种X光光栅，其特征在于，包括第一X光光栅组件和与之上下扣合的第二X光光栅组件，

该第一X光光栅组件包括多个依次交替排列的第一透光基底切片和第一沉积结构切片，该第二X光光栅组件包括多个依次交替排列的第二透光基底切片和第二沉积结构切片；该第一沉积结构切片与该第二透光基底切片上下相对并且宽度相等；该第二沉积结构切片与该第一透光基底切片上下相对并且宽度相等；

该第一沉积结构切片由依次交替的透光薄膜切片和不透光薄膜切片构成，该第二沉积结构切片由依次交替的透光薄膜切片和不透光薄膜切片构成；各个该透光薄膜切片的宽度相同，各个该不透光薄膜切片的宽度相同；

在该第一沉积结构切片与该第二沉积结构切片的相接处，该第一沉积结构切片的透光薄膜切片与该第二沉积结构切片的不透光薄膜切片相接，和/或该第一沉积结构切片的不透光薄膜切片与该第二沉积结构切片的透光薄膜切片相接。

2.根据权利要求1所述的X光光栅，其特征在于：该第一沉积结构切片的宽度为该第二沉积结构切片的宽度的整数倍或小数倍。

3.根据权利要求2所述的X光光栅，其特征在于：该透光薄膜切片与该不透光薄膜切片的宽度相同；该第一沉积结构切片内，该透光薄膜切片与该不透光薄膜切片的层数相同；该第二沉积结构切片内，该透光薄膜切片与该不透光薄膜切片的层数相同。

4.根据权利要求2所述的X光光栅，其特征在于：该透光薄膜切片与该不透光薄膜切片的宽度相同，该第一沉积结构切片内，该透光薄膜切片的层数比该不透光薄膜切片的层数多一层；该第二沉积结构切片内，该不透光薄膜切片的层数比该透光薄膜切片的层数多一层。

5.根据权利要求2所述的X光光栅，其特征在于：该透光薄膜切片的宽度为该不透光薄膜切片的宽度的整数倍或小数倍，在该第一沉积结构切片内，该透光薄膜切片与该不透光薄膜切片的层数相同；该第二沉积结构切片内，该透光薄膜切片与该不透光薄膜切片的层数相同。

6.根据权利要求2所述的X光光栅，其特征在于：该透光薄膜切片的宽度为该不透光薄膜切片的宽度的整数倍或小数倍，该第一沉积结构切片内，该透光薄膜切片的层数比该不透光薄膜切片的层数多一层；该第二沉积结构切片内，该不透光薄膜切片的层数比该透光薄膜切片的层数多一层。

7.根据权利要求1所述的X光光栅，其特征在于：该第一X光光栅组件包括第一底座及第一弹片，该第一底座包括第一置物槽，该第一弹片设置在该第一置物槽的一端，位于该X光光栅的一侧；该第一置物槽内设置第一狭缝，该第一狭缝从该第一弹片附近延伸至该第一置物槽的另一端；该多个第一透光基底切片与该多个第一沉积结构切片依次交替排列在该第一置物槽内，其中一个该第一透光基底切片与该第一弹片抵靠；

该第二X光光栅组件包括第二底座及第二弹片，该第二底座包括第二置物槽，该第二弹片设置在该第二置物槽的一端，位于该X光光栅的另一侧，与该第一弹片相对；该第二置物槽内设置第二狭缝，该第二狭缝从该第二弹片附近延伸至该第二置物槽的另一端；该多个第二透光基底切片与该多个第二沉积结构切片依次交替排列在该第二置物槽内，其中一个第二透光基底切片与该第二弹片抵靠。

8.根据权利要求7所述的X光光栅，其特征在于：该第一置物槽的深度与该第一透光基底切片及该第一沉积结构切片的厚度相同；和/或该第二置物槽的深度与该第二透光基底切片及该第二沉积结构切片的厚度相同。

9.根据权利要求7所述的X光光栅，其特征在于：该第一底座的宽度与该第二底座的宽度相同，该第一底座还包括分列于该第一置物槽两侧的凸棱，该第二底座还包括分列于该第二置物槽两侧的凹槽，该凸棱的宽度与该凹槽的宽度相同、深度相同。

10.根据权利要求1所述的X光光栅，其特征在于：该第一透光基底切片和该第二透光基底切片的材质为类金刚石或石墨，该透光薄膜切片的材质为类金刚石，该不透光薄膜切片的材质为钨。