[发明专利]下电极组件、等离子体处理装置及其工作方法有效
申请号: | 201911381446.2 | 申请日: | 2019-12-27 |
公开(公告)号: | CN113053715B | 公开(公告)日: | 2023-03-31 |
发明(设计)人: | 林雅萍;左涛涛;蔡楚洋 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人: | 包姝晴;张静洁 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电极 组件 等离子体 处理 装置 及其 工作 方法 | ||
1.一种用于等离子体处理装置的下电极组件,其特征在于,包括:
基座,具有预设工作温度,所述预设工作温度低于零下70摄氏度,其内具有冷却通道,所述冷却通道包括冷却输入端和冷却输出端;
冷却气体,其液化温度低于所述预设工作温度;
冷却装置,用于对所述冷却气体进行降温;
第一气体输送管道,用于将所述冷却气体输送至冷却装置;
第一控制阀,设于所述第一气体输送管道上,用于控制所述冷却气体进入冷却装置的流速,进而控制所述冷却气体在所述冷却装置中冷却的时长;
第二气体输送管道,与所述冷却输入端连通,用于将降温后的所述冷却气体输送入所述冷却通道内,所述降温后的所述冷却气体对基座进行降温以达到所述预设工作温度;
第三气体输送管道,与所述冷却输出端连通,用于将对所述基座降温后的所述冷却气体输出。
2.如权利要求1所述的用于等离子体处理装置的下电极组件,其特征在于,所述冷却气体包括:氮气、氦气、甲烷或氧气中的至少一种。
3.如权利要求1所述的用于等离子体处理装置的下电极组件,其特征在于,所述冷却装置为液氮装置。
4.如权利要求1所述的用于等离子体处理装置的下电极组件,其特征在于,还包括:回收气体管道,与所述第三气体输送管道连通,用于将对所述基座降温后输出的所述冷却气体输送至冷却装置。
5.如权利要求4所述的用于等离子体处理装置的下电极组件,其特征在于,还包括:气体输出管道,与所述第三气体输送管道连通,用于输出对所述基座降温后的所述冷却气体;第二控制阀,用于控制所述第三气体输送管道与所述气体输出管道连通还是与回收气体管道连通。
6.如权利要求1所述的用于等离子体处理装置的下电极组件,其特征在于,所述冷却装置的个数为1个或者多个。
7.如权利要求6所述的用于等离子体处理装置的下电极组件,其特征在于,多个所述冷却装置串联设置在第一气体输送管道和第二气体输送管道之间。
8.如权利要求6所述的用于等离子体处理装置的下电极组件,其特征在于,多个所述冷却装置并联设置于第一气体输送管道和第二气体输送管道之间。
9.如权利要求6所述的用于等离子体处理装置的下电极组件,其特征在于,多个所述冷却装置串联与并联相结合的方式设置于第一气体输送管道和第二气体输送管道之间。
10.如权利要求1所述的用于等离子体处理装置的下电极组件,其特征在于,所述基座的材料包括钛。
11.一种等离子体处理装置,其特征在于,包括:
反应腔;
如权利要求1至权利要求10任一项的下电极组件,位于所述反应腔内底部。
12.如权利要求11所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述等离子体处理装置包括电容耦合等离子体处理装置或者电感耦合等离子体处理装置。
13.一种等离子体处理装置的工作方法,其特征在于,包括:
提供权利要求11至权利要求12任一项所述的等离子体处理装置;
提供冷却气体,通过第一气体输送管道,使所述冷却气体被输送至冷却装置,利用所述冷却装置对冷却气体进行降温;
降温后的所述冷却气体通过第二气体输送管道被输送入所述冷却通道内,降温的所述冷却气体在冷却通道传输的过程中对所述基座进行降温;
对所述基座进行降温后的所述冷却气体通过第三气体输送管道输出。
14.如权利要求13所述的等离子体处理装置的工作方法,其特征在于,所述冷却气体通过第一气体输送管道进入冷却装置前的温度为:10摄氏度~30摄氏度;所述冷却气体的流速为:0ml/min~1000ml/min。
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