[发明专利]一种提高激光陀螺腔体内孔均匀性的化学抛光方法

权利要求书

1.一种提高激光陀螺腔体内孔均匀性的化学抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：

将待抛光激光陀螺腔体的非腐蚀区域粘贴胶带，形成预保护腔体；

通过聚四氟乙烯V形支撑块或聚四氟乙烯镂空圆形支撑架将所述预保护腔体竖直悬置于腐蚀液中并确保待腐蚀内孔充分暴露，将总腐蚀时间作为一个腐蚀周期，总腐蚀时间为8-12min,每隔1/4腐蚀周期，将腔体按照同一时针方向旋转90°，得腐蚀腔体；其中，所述腐蚀液为氢氟酸/硝酸水溶液、氢氟酸/盐酸水溶液或氢氟酸/硫酸水溶液,所述腐蚀液中氢氟酸的体积分数为5-40％，硝酸、盐酸或硫酸的体积分数为5-40％；

将所述腐蚀腔体置于中和液中浸洗，所述中和液为5-15wt％的碳酸氢钠水溶液，再水洗；

干燥，即得。

2.根据权利要求1所述的提高激光陀螺腔体内孔均匀性的化学抛光方法，其特征在于，在形成预保护腔体的步骤之前还包括依次采用汽油、丙酮和无水乙醇对待抛光激光陀螺腔体进行超声清洗的步骤。

3.根据权利要求1所述的提高激光陀螺腔体内孔均匀性的化学抛光方法，其特征在于，所述干燥为采用氮气或压缩空气吹干所述腐蚀腔体。

4.根据权利要求1所述的提高激光陀螺腔体内孔均匀性的化学抛光方法，其特征在于，所述腐蚀液由体积比为(0.8-1.2):(1.3-1.7):(0.8-1.2)的氢氟酸、硝酸和去离子水组成。

5.根据权利要求1所述的提高激光陀螺腔体内孔均匀性的化学抛光方法，其特征在于，所述腐蚀液由体积比为(0.8-1.2):(1.8-2.2):(1.8-2.2)的氢氟酸、盐酸和去离子水组成；或者

所述腐蚀液由体积比为8:1:11的氢氟酸、硫酸和去离子水组成。

6.权利要求1至5任一项所述的化学抛光方法抛光而成的激光陀螺腔体。