[发明专利]光学成像系统、取像装置和光学装置在审

专利信息
申请号: 201911381985.6 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN113050251A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 刘彬彬;李明;邹海荣;张文燕 申请(专利权)人: 江西晶超光学有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/18
代理公司: 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 代理人: 贾玉姣
地址: 330000 江西省南昌市*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 光学 成像 系统 装置
【说明书】:

发明公开了一种光学成像系统,光学成像系统由物侧至像侧依次包括:具有正曲折力的第一透镜,且物侧面近轴区域为凸面;具有正曲折力的第二透镜,且物侧面近轴区域为凹面、像侧面近轴区域为凸面;具有负曲折力的第三透镜,且物侧面近轴区域为凸面、像侧面近轴区域为凹面;具有负曲折力的第四透镜,且物侧面近轴区域为凹面;具有正曲折力的第五透镜,且物侧面近轴区域为凸面;具有负曲折力的第六透镜,且像侧面近轴区域为凹面。光学成像系统满足关系式:Fno/TTL0.4、0.2GTL6/ITL60.3。由此,当Fno/TTL和GTL6/ITL6满足上述关系式时,不仅能够实现微型设计,还能够增大通光口径,相比较其他微型摄像镜头有更大的进光量,可满足高清晰图像及暗光拍摄的需求。

技术领域

本发明涉及光学成像技术领域,尤其是涉及一种光学成像系统、取像装置和光学装置。

背景技术

随着手机、平板电脑、无人机、计算机等电子产品在生活中的广泛应用,各种科技改进推陈出新。其中,新型电子产品改进中摄像镜头拍摄效果的改进创新成为人们关注的重心之一,同时成为科技改进的一项重要内容,能否使用微型摄像元件拍摄出高画质感、高分辨率、高清晰度,甚至暗光条件下能拍摄出画质清晰的图片成为现代人选择何种电子产品的关键因素。另一方面,光电耦合器(CCD)及互补金属氧化物半导体(CMOS)等感光元件伴随着科技进步在性能上的改进,为拍摄高质量的像质提供了可能,给人们带来了更高画质感的拍摄体验。因此,光学成像系统设计的微型化及性能改进成为目前摄像头提升拍摄质量的关键因素。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明的一个目的在于提出一种光学成像系统,在满足微型设计的同时,增大了通光口径,有更大的进光量,可满足高清晰图像及暗光拍摄的需求。

本发明还提出了一种取像装置。

本发明进一步提出了一种光学装置。

根据本发明第一方面实施例的光学成像系统,由物侧至像侧依次包括:

一具有正曲折力的第一透镜,所述第一透镜的物侧面近轴区域为凸面;

一具有正曲折力的第二透镜,所述第二透镜的物侧面近轴区域为凹面且像侧面近轴区域为凸面;

一具有负曲折力的第三透镜,所述第三透镜的物侧面近轴区域为凸面且像侧面近轴区域为凹面;

—具有负曲折力的第四透镜,所述第四透镜的物侧面近轴区域为凹面;

—具有正曲折力的第五透镜,所述第五透镜的物侧面近轴区域为凸面;

—具有负曲折力的第六透镜,所述第六透镜的像侧面近轴区域为凹面;

所述光学成像系统满足关系式:

Fno/TTL0.4,0.2GTL6/ITL60.3;

其中,Fno为光学透镜组光圈数,TTL为第一透镜物侧面至成像面于光轴上的距离,GTL6为第六透镜物侧面到像侧面平行于光轴处最短的距离,ITL6为第六透镜物侧面到像侧面平行于光轴处最长的距离。

当Fno/TTL0.4,兼顾小型化的同时会造成光学系统通光量不足,拍摄出的画面清晰度下降。根据本发明的光学成像系统,当Fno/TTL<0.4时,可以使镜头系统可以满足大光圈及小型化设计要求,为摄像提供足够的通光量,满足高画质高清晰拍摄需要。此外,所述光学成像系统还满足关系式:0.2GTL6/ITL60.3,GTL6为第六透镜物侧面到像侧面平行于光轴处最短(薄)的距离,ITL6为第六透镜物侧面到像侧面平行于光轴处最长(厚)的距离。当GTL6/ITL6满足该上述关系式时,即合理的控制了透镜厚薄比,使该镜片实现光轴处超薄设计,可有效压缩镜头总长度,并且可以保证镜片的可加工性及成型良率。

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