[发明专利]一种砷化镓基发光二极管粗化后取管芯的方法有效
申请号: | 201911382156.X | 申请日: | 2019-12-27 |
公开(公告)号: | CN113054068B | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
发明(设计)人: | 徐晓强;吴向龙;闫宝华;王成新;徐现刚 | 申请(专利权)人: | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/22 | 分类号: | H01L33/22;H01L33/00 |
代理公司: | 北京华际知识产权代理有限公司 11676 | 代理人: | 张文杰 |
地址: | 261061 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 砷化镓基 发光二极管 粗化后取 管芯 方法 | ||
1.一种砷化镓基发光二极管粗化后取管芯的方法,其特征在于:包括以下步骤:
1)晶片制作,切割得到管芯,管芯P面黏贴黏性膜;
2)取步骤1)处理后的管芯,粗化处理;
a)取步骤1)处理后的管芯,加热,置于恒温粗化液中进行粗化;
b)取步骤a)粗化后的管芯,冲洗粗化液,干燥;
3)取步骤2)粗化后的管芯,去除管芯表面的粗化残留物;
a)取步骤2)干燥后的管芯,在管芯N面涂覆一层光刻胶,烘烤固化;
b)取步骤a)中烘烤后的管芯,无水乙醇溶解去除掉光刻胶,清洗,干燥;
4)倒膜,结束操作;
a)取步骤3)中处理后的管芯,管芯N面贴蓝膜,倒膜,此时管芯P面朝上,完成倒膜。
2.根据权利要求1所述的一种砷化镓基发光二极管粗化后取管芯的方法,其特征在于:所述晶片自下而上包括N面电极层、GaAs衬底、N型GaAs欧姆接触层、N型限制层、MQW量子阱有源层、P型限制层、P型GaAs欧姆接触层、电流扩展层、P面电极层。
3.根据权利要求2所述的一种砷化镓基发光二极管粗化后取管芯的方法,其特征在于:所述N面电极层制作材料为Au、Ni、Ge、Pt、AuBe中的任意一种。
4.根据权利要求1所述的一种砷化镓基发光二极管粗化后取管芯的方法,其特征在于:步骤2)的a)步骤,加热方法为平板加热,加热温度为50-90℃,加热时间为3-10min。
5.根据权利要求1所述的一种砷化镓基发光二极管粗化后取管芯的方法,其特征在于:步骤3)的a)步骤中,光刻胶的厚度为2-4μm。
6.根据权利要求1所述的一种砷化镓基发光二极管粗化后取管芯的方法,其特征在于:步骤3)的a)步骤中,烘烤温度为70-90℃,烘烤时间为5-10min。
7.根据权利要求1所述的一种砷化镓基发光二极管粗化后取管芯的方法,其特征在于:步骤2)的b)步骤中,粗化液为碘、醋酸、硝酸、磷酸的混合物,其中所述碘、醋酸、硝酸、磷酸的质量比为1:100:20:30。
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