[发明专利]一种光学模组及其光学模组的制备方法在审

专利信息
申请号: 201911383280.8 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN110969148A 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 吉萍;李永智;金科;赖芳奇;吕军 申请(专利权)人: 苏州科阳光电科技有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00;G02B7/02
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 215143 江苏省苏州市苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学 模组 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种光学模组,其特征在于,包括:

基底;

位于所述基底一侧上的遮光层以及多个微镜头,所述遮光层上设置有多个开口;所述开口露出所述微镜头;

保护层,位于所述遮光层背离所述基底的一侧;所述保护层设置有多个第一通孔;所述微镜头在所述基底上的垂直投影位于所述第一通孔在所述基底上的垂直投影内;

所述微镜头的顶部至底部的垂直距离为h,所述保护层的厚度为H,h<H。

2.根据权利要求1所述的光学模组,其特征在于,所述保护层还包括多个第二通孔;

所述第二通孔在所述基底上的垂直投影与所述微镜头在所述基底上的垂直投影不交叠。

3.根据权利要求1所述的光学模组,其特征在于,至少两个所述微镜头在所述基底上的垂直投影位于一个所述第一通孔在所述基底上的垂直投影内。

4.根据权利要求1所述的光学模组,其特征在于,还包括第一滤光层,所述第一滤光层设置于所述遮光层与所述基底之间。

5.根据权利要求1所述的光学模组,其特征在于,还包括第二滤光层,所述第二滤光层设置于所述基底背离所述遮光层的一侧。

6.根据权利要求1所述的光学模组,其特征在于,还包括增透层,所述增透层设置于所述遮光层与所述基底之间。

7.根据权利要求1所述的光学模组,其特征在于,所述微镜头的顶部至底部的垂直距离为h,h的取值范围为1-100um,所述微镜头d直径范围为3-1000um。

8.根据权利要求1所述的光学模组,其特征在于,所述保护层背离所述基底的表面还设置有方向标识。

9.一种光学模组的制备方法,其特征在于,包括:

提供基底,所述基底上形成遮光层;

在所述遮光层上形成多个开口;

在所述开口内设置微镜头;

形成保护层;

在所述保护层上形成多个第一通孔;

其中,所述微镜头在所述基底上的垂直投影位于所述第一通孔在所述基底上的垂直投影内;所述微镜头的顶部至底部的垂直距离为h,所述保护层的厚度为H,h<H。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,在所述保护层上形成多个第一通孔之时,还包括:

在所述保护层上形成多个切割槽;所述切割槽露出相邻光学模组之间的切割区;

切割形成多个光学模组。

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