[发明专利]倒四棱锥台/四棱锥形状减反微纳结构的制造方法及系统

权利要求书

1.一种倒四棱锥台/四棱锥形状减反微纳结构的制造方法，其特征在于：包括以下步骤：

1)根据待加工的倒四棱锥台/四棱锥形状的三维形状以及光学加工系统的最优制造焦深，将所述倒四棱锥台/四棱锥形状分为n层，n的取值原则：若(H/h)为整数，则n＝H/h，若(H/h)不为整数，则n为大于(H/h)且与(H/h)最接近的整数；其中：H为倒四棱锥台/四棱锥形状的深度值；h应小于或等于光学加工系统的最优制造焦深；所述光学加工系统依次包括飞秒激光器、光路传输系统、SLM矩形平顶整形单元和高倍率聚焦显微物镜；

2)通过计算获得倒四棱锥台/四棱锥每一层的层面尺寸；

3)调整光学加工系统使其焦面位于倒四棱锥台/四棱锥最上端第1层的h/2位置处，记录此时高倍率显微物镜的空间坐标；

4)飞秒激光器产生激光，经传输、SLM矩形平顶整形单元整形和高倍率聚焦显微物镜汇聚后，成为第1层所需层面尺寸的矩形平顶光，对第1层进行加工；

5)高倍率显微物镜沿z方向下降，高度为h，将焦面调整至第二层的h/2位置处；

6)通过SLM矩形平顶整形单元和高倍聚焦显微物镜将激光整形汇聚为第2层所需层面尺寸的矩形平顶光，对第2层进行加工；

7)重复步骤5至步骤6，直至第n层，最终完成倒四棱锥台/四棱锥形状减反微纳结构的制造加工。

2.根据权利要求1所述倒四棱锥台/四棱锥形状减反微纳结构的制造方法，其特征在于：所述H大于最优制造焦深；所述倒四棱锥台/四棱锥的大端面为矩形或者正方形，其边长在个微米至百微米量级。