[发明专利]水解-氧化两段式降解含氯挥发性有机物的工艺及装置

权利要求书

1.一种水解-氧化两段式降解含氯挥发性有机物的工艺，其特征在于，包括以下步骤：

(1)在100-250℃下，对含氯挥发性有机物进行催化水解脱氯反应，生成HCl和脱氯挥发性有机物；

(2)将HCl和脱氯挥发性有机物通过脱氯剂，脱除其中的HCl；

(3)在200-500℃下，对脱氯挥发性有机物进行催化深度氧化反应。

2.根据权利要求1所述的水解-氧化两段式降解含氯挥发性有机物的工艺，其特征在于，所述的含氯挥发性有机物的浓度为10-10000ppm；所述含氯挥发性有机物中含水汽0.1-25％。

3.根据权利要求1所述的水解-氧化两段式降解含氯挥发性有机物的工艺，其特征在于，步骤(1)中，催化水解脱氯的水解催化剂为改性处理的镧系基催化剂。

4.根据权利要求3所述的水解-氧化两段式降解含氯挥发性有机物的工艺，其特征在于，所述的水解催化剂的制备方法为：镧系金属氧化物或氧化物与助剂的混合物浸渍于过量的磷酸溶液中，吸附饱和后水洗至中性，烘干，再300-500℃煅烧3-10个小时，即得。

5.根据权利要求1所述的水解-氧化两段式降解含氯挥发性有机物的工艺，其特征在于，步骤(2)中，所述的脱氯剂为碱、碱金属和碱土金属氧化物中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的水解-氧化两段式降解含氯挥发性有机物的工艺，其特征在于，步骤(3)中，对脱氯挥发性有机物催化深度氧化反应时需要通入氧气，使含氧量为5～20％。

7.一种水解-氧化两段式降解含氯挥发性有机物的装置，其特征在于，包括依次连通的催化水解反应炉、HCl脱除仓和催化深度氧化反应炉；

所述催化水解反应炉内设有水解催化剂，在100-250℃下，含氯挥发性有机物在水解催化剂作用下生成HCl和脱氯挥发性有机物；

所述HCl脱除仓内设置有用于吸收HCl的脱氯剂；

所述催化深度氧化反应炉内设置有氧化催化剂，在200-500℃下，脱氯挥发性有机物在氧化催化剂作用下氧化降解。

8.根据权利要求7所述的水解-氧化两段式降解含氯挥发性有机物的装置，其特征在于，所述的催化水解反应炉和催化深度氧化反应炉内设有电辅助加热器。

9.根据权利要求8所述的水解-氧化两段式降解含氯挥发性有机物的装置，其特征在于，所述的水解-氧化两段式降解含氯挥发性有机物的装置还包括相互电连接的控制系统和温度传感器；所述温度传感器用于采集催化水解反应炉和催化深度氧化反应炉内的温度并传输给控制系统；当催化水解反应炉和催化深度氧化反应炉内的温度大于设定阈值时，控制系统驱动电辅助加热器关闭，停止加热；当催化水解反应炉和催化深度氧化反应炉内的温度小于设定阈值时，控制系统驱动电辅助加热器开启，进行加热。

10.根据权利要求8所述的水解-氧化两段式降解含氯挥发性有机物的装置，其特征在于，所述的水解-氧化两段式降解含氯挥发性有机物的装置还包括尾气检测系统，用于检测排放尾气的成分。