[发明专利]一种化学气相沉积装置

权利要求书

1.一种化学气相沉积装置，包括反应室，其特征在于，所述反应室内设置有遮蔽组件，所述遮蔽组件沿周长方向与所述反应室的内壁连接；所述遮蔽组件至少一个边角处设置有缺口，缺口与所述反应室的内壁之间形成气流通道。

2.根据权利要求1所述化学气相沉积装置，其特征在于，所述遮蔽组件的四个边角处均设置有缺口，以形成四个气流通道。

3.根据权利要求2所述化学气相沉积装置，其特征在于，所述遮蔽组件包括基座、设置在所述基座的上方的遮蔽板、以及四个导向板；所述遮蔽板为四边形方框，所述四个导向板分别将所述遮蔽板的四个侧边与所述反应室的内壁连接；相邻两个导向板之间间隔设置，以形成缺口。

4.根据权利要求3所述化学气相沉积装置，其特征在于，与所述遮蔽板的长边连接的导向板的长度小于所述遮蔽板的长边的长度；与所述遮蔽板的短边连接的导向板的长度小于所述遮蔽板的短边的长度。

5.根据权利要求4所述化学气相沉积装置，其特征在于，与所述遮蔽板的长边连接的导向板的中心与所述遮蔽板的长边的中心相对应；与所述遮蔽板的短边连接的导向板的中心与所述遮蔽板的短边的中心相对应，以形成L型缺口。

6.根据权利要求3所述化学气相沉积装置，其特征在于，与所述遮蔽板的长边连接的导向板的长度大于所述遮蔽板的长边的长度的1/2；与所述遮蔽板的短边连接的导向板的长度大于所述遮蔽板的短边的长度的1/2。

7.根据权利要求3所述化学气相沉积装置，其特征在于，导向板与所述遮蔽板可拆卸连接。

8.根据权利要求3所述化学气相沉积装置，其特征在于，导向板位于所述遮蔽板的下方，并与所述遮蔽板部分重叠。

9.根据权利要求1-8任意一项所述化学气相沉积装置，其特征在于，所述反应室具有进气孔，所述进气孔位于所述遮蔽组件的上方，所述进气孔的中心轴线垂直于所述遮蔽组件。

10.根据权利要求9所述化学气相沉积装置，其特征在于，所述反应室具有排气孔，所述排气孔位于所述遮蔽组件的下方；所述遮蔽组件与所述排气孔的距离大于所述遮蔽组件与所述排气孔的距离。