[发明专利]一种高抗拉强度铜箔及其制备方法与系统在审
申请号: | 201911388261.4 | 申请日: | 2019-12-30 |
公开(公告)号: | CN111041530A | 公开(公告)日: | 2020-04-21 |
发明(设计)人: | 张波;李波;李武;许志榕;王开林;梁建;董亚萍;徐慧云;荀库;冯海涛;郑竹林 | 申请(专利权)人: | 中国科学院青海盐湖研究所;禹象铜箔(浙江)有限公司 |
主分类号: | C25D1/04 | 分类号: | C25D1/04;C25D3/38 |
代理公司: | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人: | 王茹;王锋 |
地址: | 810008*** | 国省代码: | 青海;63 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抗拉强度 铜箔 及其 制备 方法 系统 | ||
1.一种高抗拉强度铜箔的制备方法,其特征在于包括:
至少使阳极、阴极辊、电解液共同构建电化学反应体系,其中,所述电解液为至少包含铜离子、主载体添加剂和辅助载体添加剂的混合液,所述主载体添加剂包括聚乙二醇、聚丙二醇、苯基聚二硫丙烷磺酸钠、乙基二硫代碳酸丙酯磺酸钾和乙基二硫代碳酸丙酯磺酸钠中的任意一种或两种以上的组合,所述辅助载体添加剂包括噻唑啉基二硫代丙烷磺酸钠、巯基咪唑丙烷磺酸钠、聚乙烯亚胺、聚醚胺、甲巯基噻唑、乙撑硫脲、己基苄基胺盐,N,N二甲基二硫代甲酰胺丙烷磺酸钠和四氢噻唑硫酮中的任意一种或两种以上的组合;
使所述电解液输入一混料装置充分混合;
使所述电化学反应体系通电进行电解反应,从而在所述阴极辊表面沉积形成高抗拉强度铜箔。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于包括:将所述电解液输入混料装置的混合腔室,所述混合腔室内设置有交错排布的复数个多孔加热网板,从而使部分电解液沿曲线型路径在该复数个多孔加热网板之间流动,同时使部分电解液直接通过该复数个多孔加热网板的孔洞,进而使所述电解液中的各成分均匀混合。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述电解液包含硫酸和硫酸铜的水溶液;优选的,所述电解液中铜离子的浓度为30~150g/L;优选的,所述电解液中硫酸的浓度为20~130g/L;优选的,所述电解液还包含Cl-;尤其优选的,所述电解液中Cl-的浓度为0.02~100mg/L。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述电解液中主载体添加剂的浓度为0.01~35mg/L;和/或,所述电解液中辅助载体添加剂的浓度为0.01~20mg/L。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述电解液还包括整平剂;优选的,所述整平剂包括动物明胶和/或多肽蛋白;优选的,所述电解液中整平剂的浓度为1~50mg/L。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述电解液还包括纤维素;优选的,所述纤维素包括甲基纤维素、羟丙基甲基纤维素、羟乙基纤维素和羟甲基纤维素中的任意一种或两种以上的组合;优选的,所述电解液中纤维素的浓度为0.2~40mg/L。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述电解液还包括光亮剂;优选的,所述光亮剂包括噻唑啉基二硫代丙烷磺酸钠、聚二硫二丙烷磺酸钠和醇硫基丙烷磺酸钠中的任意一种或两种以上的组合;优选的,所述电解液中光亮剂的浓度为0.3~25mg/L。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于包括:在进行电解反应时,所述电解液的温度为20~75℃;和/或,所述制备方法包括:在进行电解反应时,电流密度为800~10000A/m2。
9.由权利要求1-8中任一项所述方法制备的高抗拉强度铜箔,其抗拉强度为320~480N/mm2。
10.一种高抗拉强度铜箔的制备系统,应用于权利要求1-8中任一项所述的方法中,其特征在于包括:混料装置、电解槽体和电化学反应体系,其中,所述混料装置包括壳体,所述壳体内具有混合腔室,所述混合腔室内设置有交错排布的复数个多孔加热网板,从而使部分电解液沿曲线型路径在该复数个多孔加热网板之间流动,所述多孔加热网板上开设有复数个孔洞,同时使部分电解液直接通过该孔洞,进而使所述电解液中的各成分均匀混合;
优选的,所述壳体内设置有固定于壳体内部顶端的复数个间隔分布的第一多孔加热网板,以及固定于壳体内部底端的复数个间隔分布的第二多孔加热网板,其中任一所述第一多孔加热网板插设于相邻两个第二多孔加热网板之间;
优选的,所述壳体具有进液口和出液口;
优选的,所述壳体的出液口处还设置有温度传感器。
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